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原位紅外技術在左氧氟沙星合成中的縮哌機理及其異位雜質探討中的應用

發(fā)布時間:2018-08-27 08:56
【摘要】:目的研究左氧氟沙星合成中的縮哌機理及進行異位雜質形成機理的探討。方法利用原位紅外技術,對左氟羧酸縮哌制成左氧氟沙星的重要步驟進行了跟蹤研究。結果最終捕捉到了中間過渡態(tài)的烯醇互變式的特征紅外光譜,以及10號位Ar-F鍵受熱消除后1567cm~(-1)特征峰消失的整個過程,分析該特征峰的趨勢可以準確的把握反應的進程。結論最終確定反應的機理為典型的"活化芳烴先加成/后消除的親核取代反應",并根據有機反應機理中電子有效流動規(guī)則,推理出本工藝中N-甲基哌嗪不可能進攻9號位的氟,即不會形成類似EP8.0中氧氟沙星所產生的異位雜質D,這為工藝過程的優(yōu)化建立了良好的理論基礎。
[Abstract]:Objective to study the mechanism of pyrroline and ectopic impurity formation in the synthesis of levofloxacin. Methods the important steps of preparing levofloxacin from levofloxacin were studied by in situ infrared technique. Results the characteristic infrared spectra of the intermediate transition state of enol mutuality and the disappearance of 1567 cm-1 characteristic peak of Ar-F bond at position 10 were finally captured. The trend of the characteristic peak could accurately grasp the process of reaction. Conclusion the mechanism of the reaction is a typical nucleophilic substitution reaction in which activated aromatics are first added / then eliminated. According to the rule of effective electron flow in the organic reaction mechanism, it is inferred that N- methylpiperazine can not attack fluorine at site 9 in this process. That is, the heterotopic impurity Dproduced by ofloxacin in EP8.0 will not be formed, which provides a good theoretical basis for the optimization of the process.
【作者單位】: 上海右手醫(yī)藥科技開發(fā)有限公司;
【分類號】:R914

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本文編號:2206747

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