目的探討影響青少年下頜磨牙后區(qū)生長(zhǎng)潛力的因素,并分析基于遺傳算法(genetic algorithms,GAS)優(yōu)化青少年下頜磨牙后區(qū)生長(zhǎng)潛力非線性預(yù)測(cè)方程的準(zhǔn)確性。方法選取2017—2019年于吉林大學(xué)口腔醫(yī)院正畸科就診的符合納入標(biāo)準(zhǔn)的初診患者306例。通過(guò)頭顱定位側(cè)位片測(cè)量下頜磨牙后間隙及頸椎測(cè)量指標(biāo),采用多元線性回歸分析下頜磨牙后間隙與年齡、下頜第三磨牙牙齡、頸椎骨齡等的相關(guān)性,選取最強(qiáng)相關(guān)因子構(gòu)建線性回歸方程和基于GAS優(yōu)化的非線性方程,并比較兩個(gè)預(yù)測(cè)方程的準(zhǔn)確性。結(jié)果 (1)不同矢狀骨面型患者下頜磨牙后間隙不同,骨性Ⅰ類錯(cuò)畸形組[(9.99±2.53)mm]與骨性Ⅲ類錯(cuò)畸形組[(10.53±3.53)mm]比較,差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P> 0.05);而骨性Ⅱ類錯(cuò)畸形組患者下頜磨牙后間隙[(8.98±2.71)mm]小于骨性Ⅰ類和Ⅲ類錯(cuò)畸形組,差異均有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(均P <0.05)。故將所有患者分為骨性Ⅰ+Ⅲ類錯(cuò)畸形組和骨性Ⅱ類錯(cuò)畸形組。(2)下頜磨牙后間隙(RMS)與下頜第三磨牙牙齡(YL)呈正相關(guān)關(guān)系,兩組分別構(gòu)建線性回歸方程和基于GAS優(yōu)化的非線性方程如下。骨性...

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圖1下頜磨牙后間隙測(cè)量示意圖

由于部分青少年患者下頜第二磨牙尚未完全萌出，故以下頜第一磨牙為基準(zhǔn)測(cè)量下頜磨牙后間隙。根據(jù)參考文獻(xiàn)[2]的測(cè)量方法，選用眶耳平面（FH平面）為參考線，過(guò)下頜升支前緣最凹點(diǎn)，做FH平面的垂線，下頜第一磨牙牙冠遠(yuǎn)中最凸點(diǎn)到該垂線的距離即為下頜第一磨牙后間隙（圖1）。1.2.3下頜第....

圖2采用Nolla法評(píng)估牙齡示意圖（引自參考文獻(xiàn)[8])

采用Nolla法評(píng)估下頜第三磨牙牙齡，將牙齒發(fā)育過(guò)程分為10個(gè)階段（圖2），包括牙囊尚未出現(xiàn)（階段0）、牙囊存在（階段1）、牙冠鈣化（階段2～6）、牙根鈣化（階段7～9）、牙根完全形成（階段10），并記為0～10分，當(dāng)牙齒發(fā)育介于兩個(gè)連續(xù)階段之間，可適當(dāng)分別加0.2、0.5或0.....

圖3頸椎骨標(biāo)志點(diǎn)示意圖（引自參考文獻(xiàn)[9])

(1）標(biāo)志點(diǎn)的確定：C2d、C3d、C4d分別為C2、C3和C4椎體下緣的最凹點(diǎn)；C2a、C2p、C3la、C3lp、C4la、C4lp分別為C2、C3、C4椎體下緣的最前部和最后部；C3ua、C3up、C4ua、C4up分別為C3、C4椎體上緣的最前部和最后部；C3um、C4u....

本文編號(hào)：3970539