發(fā)布時(shí)間：2020-07-02 12:08

【摘要】：目的 本實(shí)驗(yàn)主要研究三種不同全瓷冠系統(tǒng)制作的底層冠邊緣適合性，為臨床應(yīng)用提供理論依據(jù)。 方法 通過模擬下頜前磨牙來加工一個(gè)金屬主代型，然后復(fù)制12個(gè)環(huán)氧樹脂子代型，隨機(jī)分為4組，分別制作鎳鉻金屬烤瓷冠、 IPS-Empess2陶瓷冠、GI-II全瓷冠、Cerec3D全瓷冠系統(tǒng)各3個(gè)，粘接（3M-Relyx Unicem），包埋，片切，用掃描電鏡(SEM）來評價(jià)冠的適合性，用Smile view軟件測量邊緣，肩臺，軸面，牙合面的粘固劑垂直距離，然后計(jì)算各個(gè)距離的平均值和標(biāo)準(zhǔn)差，采用單因素方差分析和q檢驗(yàn)來進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析。 結(jié)果 鎳鉻金屬烤瓷，IPS-Empess陶瓷， Cere3系統(tǒng)全瓷，GI-II全瓷，的邊緣適合性分別為(88.2±21.2μm)，（65.1±11.1μm)，（87.4±8.9μm），（108.9±12.5μm）,肩臺適合性分別為（109.9±12.4μm）（87.0±11.0μm），（107.9±21.0μm）,(117.4±15.5μm）軸面適合性分別為（41.8±8.0μm）,(62.6±12.0μm),（93.9±35.5μm）,(116.5±6.2μm）。牙合面適合性分別為（106.9±14.0μm）(64.6±27.0μm)，（213.2±29.0μm），（107.3±11.2μm）。各種全瓷系統(tǒng)邊緣適合性之間有顯著差異(P＜0.05），IPS-Empress2系統(tǒng)制作的冠邊緣的間隙最小，GI-II系統(tǒng)制作全瓷冠的邊緣間隙最大。 結(jié)論 三種全瓷系統(tǒng)底層冠的邊緣適合性都在120μm臨床接受的范圍之內(nèi)。IPS-Empess系統(tǒng)邊緣間隙最小且均勻一致，邊緣適合性最高，GI-II系統(tǒng)邊緣間隙雖然最大且不均勻，但符合臨床上適合性的要求。
【學(xué)位授予單位】：遼寧醫(yī)學(xué)院
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2012
【分類號】：R783

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 陳小冬;杜傳詩;巢永烈;;固定修復(fù)體適合性的評價(jià)方法[J];國外醫(yī)學(xué).口腔醫(yī)學(xué)分冊;1992年05期

2 陳悅,黎紅,趙云鳳,梁星;Cerec 2型機(jī)攝像頭的口外控制裝置對CAD/CAM全瓷底層冠適合性的影響[J];華西口腔醫(yī)學(xué)雜志;2005年03期

3 譚發(fā)兵;王璐;付鋼;吳樹洪;金萍;;不同光學(xué)印模法對全瓷冠邊緣和內(nèi)部適合性影響的實(shí)驗(yàn)研究[J];華西口腔醫(yī)學(xué)雜志;2010年01期

4 吳偉力;張修銀;;全瓷冠邊緣適合性研究進(jìn)展[J];口腔材料器械雜志;2007年04期

5 郭大偉;張保衛(wèi);葛艷;陸永健;;全瓷冠預(yù)備體聚合度對全瓷冠邊緣適合性及抗壓強(qiáng)度的影響[J];口腔頜面修復(fù)學(xué)雜志;2006年01期

6 鄔烈;駱小平;;固定修復(fù)體適合性的研究方法[J];口腔頜面修復(fù)學(xué)雜志;2007年01期

7 王泉;張建中;;Cerec全瓷修復(fù)體適合性的研究進(jìn)展[J];山東醫(yī)藥;2008年14期

8 翁維民;李瑩;張富強(qiáng);;牙體制備形態(tài)對Cerec全瓷冠邊緣適合性的影響分析[J];上�？谇会t(yī)學(xué);2008年03期

9 韓東,伊哲;臨床評價(jià)全冠修復(fù)體適合性的一種方法[J];實(shí)用醫(yī)技雜志;2005年15期

10 劉偉才,巢永烈,萬乾炳,廖運(yùn)茂;GI-Ⅱ型滲透陶瓷底層冠適合性及軸面聚合度對適合性的影響研究[J];現(xiàn)代口腔醫(yī)學(xué)雜志;2003年01期

本文編號：2738179