發(fā)布時(shí)間：2017-03-18 13:04

  本文關(guān)鍵詞：燒結(jié)次數(shù)對(duì)氧化鋯全瓷冠抗壓強(qiáng)度的影響，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：目的：通過(guò)對(duì)不同燒結(jié)次數(shù)氧化鋯全瓷冠標(biāo)準(zhǔn)試件抗壓強(qiáng)度的測(cè)試，探討燒結(jié)次數(shù)對(duì)氧化鋯全瓷冠抗壓強(qiáng)度的影響，為氧化鋯全瓷冠的臨床應(yīng)用提供依據(jù)。 方法： 1試件制備：采用精密車床加工制造模擬前磨牙預(yù)備體的金屬代型一個(gè)，代型底座直徑50mm，厚20mm，底座中央形成一個(gè)柱形金屬預(yù)備體，直徑5mm，高6mm，打磨拋光使其無(wú)銳利邊緣。利用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)與計(jì)算機(jī)輔助制作(CAD-CAM)系統(tǒng)，將上述金屬預(yù)備體放置于掃描儀中進(jìn)行數(shù)字掃描，獲取三維數(shù)據(jù)，同時(shí)計(jì)算機(jī)會(huì)將掃描結(jié)果記錄下來(lái)，根據(jù)掃描結(jié)果，設(shè)計(jì)基底冠，控制車床車針切割研磨成品氧化鋯瓷塊形成高6.5mm，直徑6mm，厚0.5mm的筒狀基底冠25個(gè)，誤差控制在±0.02mm，，在燒結(jié)爐中燒結(jié)后備用。將氧化鋯基底冠常規(guī)噴砂、清洗，熱處理后，采用二次法燒結(jié)遮色瓷，并使遮色瓷厚度保持0.2mm~0.3mm。然后分別進(jìn)行體瓷的涂塑，并按照廠家提供的燒結(jié)程序燒結(jié)；體瓷燒結(jié)完成后打磨調(diào)整厚度，使試件的最終總厚度為1.5mm，誤差控制在±0.05mm。將試件隨機(jī)分成5組，每組5個(gè)，記為A-E組，按照體瓷的燒結(jié)程序依此進(jìn)行1、3、5、7、9次的燒結(jié)。每次燒結(jié)后均經(jīng)自然冷卻至室溫后再進(jìn)行下一次燒結(jié)。最后均自身上釉一次，完成試件制備。 2抗壓強(qiáng)度的破壞性試驗(yàn)：將上述各組試件按照分組依次至于萬(wàn)能材料測(cè)試機(jī)上，采用直徑為6mm的球形壓頭，以１mm/min的速度加載于試件牙合面直至試件碎裂崩脫為止，并記錄折裂時(shí)的力值。 3統(tǒng)計(jì)分析：對(duì)所測(cè)得的破壞試驗(yàn)力值用SPSS13.0統(tǒng)計(jì)分析軟件進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析。首先進(jìn)行正太性檢驗(yàn)和方差齊性檢驗(yàn)。呈正太性分布的資料以均數(shù)±標(biāo)準(zhǔn)差（X|-±s）表示。若呈正太性分布及方差齊性后再進(jìn)行單因素方差分析，若非正太分布或/和方差不齊則進(jìn)行變量變換后采用單因素方差分析或Kruskal-Wills H檢驗(yàn)。當(dāng)P0.05時(shí)進(jìn)行多個(gè)樣本均數(shù)的兩兩比較。檢驗(yàn)水準(zhǔn)均為a=0.05，以P0.05為有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。 4掃描電子顯微鏡（SEM）觀察各組試件斷裂面的微觀結(jié)構(gòu)。 結(jié)果： 1各組試件破壞試驗(yàn)力值分別為：A組：（2401±184）N，B組：（2381±143）N，C組：（2284±95）N，D組：（1655±132）N，E組：（1603±95）N。 2單因素方差分析結(jié)果顯示不同燒結(jié)次數(shù)的氧化鋯全瓷冠的破壞力值有顯著性差別(P0.01)。兩兩比較結(jié)果，A與D、A與E、B與D、B與E、C與D、C與E組的破壞試驗(yàn)力值差別有顯著性（P0.01)，其余任兩組氧化鋯全瓷冠的破壞試驗(yàn)力值差別無(wú)顯著性(P0.05)。 3破壞試驗(yàn)后氧化鋯全瓷冠斷面微觀結(jié)構(gòu)：在300倍掃描電子顯微鏡下觀察各組氧化鋯基底瓷-飾瓷結(jié)合界面的微觀結(jié)構(gòu)，A組：界面結(jié)合緊密，平坦，少量小氣孔。B組：界面結(jié)合緊密，平坦，少量小氣孔。C組：界面較平坦，大小不等氣孔散在。Ｄ組：界面不平坦，大氣孔散在，長(zhǎng)而不規(guī)則裂紋。E組：界面不平坦，大氣孔散在，長(zhǎng)而不規(guī)則裂紋。在1000倍掃描電子顯微鏡下觀察各組飾瓷層斷面的微觀結(jié)構(gòu)，A組：表面平坦均質(zhì)玻璃樣結(jié)構(gòu)，少量小氣孔。B組：表面平坦均質(zhì)玻璃樣結(jié)構(gòu)，少量小氣孔，少量短小微裂紋。C組：表面高低不平，刃狀突起之間存在玻璃樣結(jié)構(gòu)，較多微裂紋，大小不等氣孔分布。Ｄ組：表面高低不平，刃狀突起之間存在玻璃樣結(jié)構(gòu)，較多微裂紋，較多大氣孔分布。E組：表面高低不平，刃狀突起之間存在玻璃樣結(jié)構(gòu)，較多微裂紋，較多大氣孔分布。在1000倍掃描電子顯微鏡下觀察各組氧化鋯基底層斷面的微觀結(jié)構(gòu)，A組：晶體排列致密規(guī)則，平坦，較少團(tuán)聚體。B組：晶體排列致密規(guī)則，平坦，較少團(tuán)聚體。C組：晶體排列致密，較多團(tuán)聚體。Ｄ組：晶體排列緊密，較多山脊?fàn)钔黄�，較多團(tuán)聚體，團(tuán)聚體邊緣不規(guī)則。E組：晶體排列緊密，較多山脊?fàn)钔黄�，較多團(tuán)聚體，團(tuán)聚體邊緣不規(guī)則。 結(jié)論： 1隨燒結(jié)次數(shù)的增加，氧化鋯全瓷冠的抗壓強(qiáng)度呈逐漸降低趨勢(shì)。 2臨床應(yīng)用時(shí)應(yīng)盡量減少氧化鋯全瓷冠的燒結(jié)次數(shù)，體瓷的燒結(jié)次數(shù)最好控制在5次以下。
【關(guān)鍵詞】：氧化鋯 全瓷冠 燒結(jié)次數(shù) 抗壓強(qiáng)度
【學(xué)位授予單位】：河北醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2013
【分類號(hào)】：R783.1
【目錄】：

• 中文摘要4-6
• 英文摘要6-9
• 前言9
• 材料與方法9-12
• 結(jié)果12-13
• 附圖13-26
• 附表26-27
• 討論27-32
• 結(jié)論32-33
• 參考文獻(xiàn)33-36
• 綜述 全瓷修復(fù)體強(qiáng)度的研究現(xiàn)狀36-44
• 參考文獻(xiàn)41-44
• 致謝44-45
• 個(gè)人簡(jiǎn)歷45

【參考文獻(xiàn)】

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