自從1947年第一個(gè)晶體管發(fā)明以來(lái),以集成電路為代表的半導(dǎo)體技術(shù)的高速發(fā)展推動(dòng)了人類社會(huì)的數(shù)字化和信息化,為我們帶來(lái)了高效舒適的現(xiàn)代化生活。集成電路制造產(chǎn)業(yè)的硬件基礎(chǔ)是各類不同用途的專用集成電路制造裝備,而其中核心裝備是投影光刻機(jī),投影光刻機(jī)中的核心部件又是投影物鏡,其研發(fā)與制造難度是超精密光學(xué)的頂峰。目前主流的投影物鏡顯著特點(diǎn)是高NA（1.35）、大視場(chǎng)（26mm×5.5mm）和極高的成像質(zhì)量要求（包括標(biāo)量像差和偏振像差）。這對(duì)投影物鏡的設(shè)計(jì)、加工制造和像質(zhì)補(bǔ)償提出了極高的要求。本論文基于以上背景開展了研究工作,主要研究?jī)?nèi)容概括如下:首先對(duì)國(guó)內(nèi)外的研究現(xiàn)狀進(jìn)行了調(diào)研,包括投影物鏡的發(fā)展歷程和像差補(bǔ)償方法。在這個(gè)基礎(chǔ)上,論文的第一部分開展了浸沒(méi)投影物鏡的優(yōu)化設(shè)計(jì)工作。浸沒(méi)光刻機(jī)采用了偏振光照明,需要考慮投影物鏡偏振像差對(duì)成像的影響,故本文首先對(duì)投影物鏡的標(biāo)量成像理論進(jìn)行了拓展,建立了偏振像差理論體系。針對(duì)標(biāo)量像差要求,分析了浸沒(méi)投影物鏡的像差校正難點(diǎn)和方法,在合理的系統(tǒng)復(fù)雜度條件下,為了校正場(chǎng)曲,必須采用折反式結(jié)構(gòu)。在分析了不同的折反式結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)后,選擇了兩片反射鏡的同軸折反式結(jié)構(gòu),完... 

【文章來(lái)源】：中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所)吉林省

【文章頁(yè)數(shù)】：174 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：博士

【部分圖文】：

第一臺(tái)通用計(jì)算機(jī)ENIAC

雖然摩爾定律最初是對(duì)集成電路發(fā)展趨勢(shì)的歸納總結(jié),但自其提出后,隨著其預(yù)言不斷的獲得驗(yàn)證,它反過(guò)來(lái)開始牽引整個(gè)集成電路行業(yè)的發(fā)展,引導(dǎo)著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)長(zhǎng)期規(guī)劃和目標(biāo)設(shè)定。目前半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展基本上遵循著摩爾定律,下面均以電腦用集成電路中的中央微處理器(Centrol Processing Unit,CPU)為代表來(lái)介紹集成電路的發(fā)展。從1971年至2011年,單個(gè)CPU上晶體管數(shù)量與摩爾定律的關(guān)系如圖1.2所示[10]。Intel公司的CPU發(fā)展歷程如圖1.3所示[11]。圖1.3英特爾中央處理器芯片發(fā)展歷史

圖1.2微處理器上晶體管數(shù)與摩爾定律從圖1.2和圖1.3中可以看出,單個(gè)微處理器上集成的晶體管數(shù)量增長(zhǎng)規(guī)律和摩爾定律所預(yù)測(cè)的基本一致。具體來(lái)看,1971年Intel開發(fā)出第一代也是世界上第一個(gè)微處理器芯片4004,采用的是10μm工藝,包含了4個(gè)芯片,2300個(gè)晶體管。到2012年,在Intel采用22nm工藝的通用中央微處理器上集成的晶體管數(shù)量已經(jīng)達(dá)到了14億個(gè),增長(zhǎng)超60萬(wàn)倍。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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[3]高數(shù)值孔徑投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計(jì)[D]. 徐明飛.中國(guó)科學(xué)院研究生院(長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所) 2015
[4]共軸極紫外投影光刻物鏡設(shè)計(jì)研究[D]. 劉菲.北京理工大學(xué) 2014
[5]投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計(jì)與像質(zhì)補(bǔ)償[D]. 許偉才.中國(guó)科學(xué)院研究生院（長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所） 2011
[6]極紫外投影光刻中若干關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 金春水.中國(guó)科學(xué)院研究生院（長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所） 2003



本文編號(hào)：3321638