針對(duì)氬氧精煉鉻鐵合金過程,建立了一種基于抗飽和內(nèi)�？刂频臍逖蹙珶掋t鐵合金碳含量控制系統(tǒng),且依據(jù)實(shí)際生產(chǎn)數(shù)據(jù),構(gòu)造了供氧速率飽和約束專家系統(tǒng)。通過對(duì)受到控制器飽和的內(nèi)�？刂破鬟M(jìn)行飽和補(bǔ)償,彌補(bǔ)了系統(tǒng)控制量超出實(shí)際工藝水平的缺陷,在保證整個(gè)過程中冶煉溫度不會(huì)超出限制的前提下,發(fā)揮出內(nèi)�？刂品�(wěn)態(tài)無誤差的特點(diǎn),準(zhǔn)確達(dá)到冶煉過程的預(yù)期目標(biāo)。 

【文章來源】：科學(xué)技術(shù)與工程. 2020,20(22)北大核心

【文章頁數(shù)】：6 頁

【部分圖文】：

內(nèi)�？刂平Y(jié)構(gòu)框圖

為保證控制器穩(wěn)態(tài)無誤差,需要對(duì)內(nèi)�？刂平Y(jié)構(gòu)進(jìn)行必要的改進(jìn),從而使得改進(jìn)后的控制器控制量輸出能夠跟隨內(nèi)�？刂频膶�(shí)際輸出,進(jìn)而達(dá)到預(yù)期的控制效果,保證系統(tǒng)穩(wěn)態(tài)無誤差[10]。改進(jìn)后的抗飽和IMC結(jié)構(gòu)如圖2所示。由圖2可知,將傳統(tǒng)的內(nèi)�？刂破鞣殖闪薗1(s)和Q2(s) 兩個(gè)控制器部分,三者滿足條件為

圖3為濾波器時(shí)間常數(shù)為300的理想內(nèi)�？刂瓶刂屏壳�與有飽和約束但未進(jìn)行飽和補(bǔ)償?shù)膬?nèi)�？刂瓶刂屏壳�,除飽和部分外,其余部分二者曲線重合。圖4為濾波器時(shí)間常數(shù)為300的理想內(nèi)�？刂戚敵銮�與有飽和約束但未進(jìn)行飽和補(bǔ)償?shù)膬?nèi)�？刂戚敵隽壳�,在有效時(shí)間內(nèi),前者有著更好地動(dòng)態(tài)響應(yīng)性能,更快地到達(dá)穩(wěn)態(tài)終點(diǎn)。圖4 理想內(nèi)�？刂戚敵雠c有飽和約束內(nèi)�？刂戚敵�

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
[1]氬氧精煉低碳鉻鐵生產(chǎn)過程數(shù)學(xué)模型的建立及控制策略的研究[D]. 馬海濤.中國科學(xué)院研究生院（長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所） 2011



本文編號(hào)：3338976