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X射線干涉光刻光束線偏轉(zhuǎn)鏡系統(tǒng)的設(shè)計與測試

發(fā)布時間:2017-09-09 09:06

  本文關(guān)鍵詞:X射線干涉光刻光束線偏轉(zhuǎn)鏡系統(tǒng)的設(shè)計與測試


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【摘要】:介紹了上海光源X射線干涉光刻(XIL)光束線的基本情況。為實現(xiàn)光束線的光束偏轉(zhuǎn)和光路切換,完成了其偏轉(zhuǎn)鏡系統(tǒng)的研制。分析了偏轉(zhuǎn)鏡系統(tǒng)的功能,設(shè)計了偏轉(zhuǎn)鏡的調(diào)節(jié)機構(gòu)、切換機構(gòu)和冷卻結(jié)構(gòu)。論述了調(diào)節(jié)機構(gòu)的關(guān)鍵運動,即鏡箱外直線運動轉(zhuǎn)化為超高真空內(nèi)旋轉(zhuǎn)運動的實現(xiàn)過程;討論了切換機構(gòu)重復(fù)精度與承載能力之間的關(guān)系,并完成了精密絲桿的校核。采用鏡子支撐方式和冷卻方式集成的方案設(shè)計了冷卻結(jié)構(gòu),并通過數(shù)值模擬分析了冷卻結(jié)構(gòu)和冷卻效果。模擬結(jié)果表明鏡子子午面形誤差和弧矢面形誤差分別約為6.5rad和7rad。應(yīng)用激光干涉儀和光電自準直儀對調(diào)節(jié)機構(gòu)和切換機構(gòu)進行了測試,結(jié)果表明:調(diào)節(jié)機構(gòu)的線性分辨力可達0.2μm,切換機構(gòu)的重復(fù)精度滿足設(shè)計要求。
【作者單位】: 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所應(yīng)用光學(xué)國家重點實驗室;
【關(guān)鍵詞】上海同步輻射光源 X射線干涉光刻 偏轉(zhuǎn)鏡 結(jié)構(gòu)設(shè)計 精度測試
【基金】:國家重大科學(xué)工程資助項目 上海光源工程資助項目(No.SS-06) 國家自然科學(xué)基金資助項目(No.11079035)
【分類號】:TH74;TN305.7
【正文快照】: 1引言當今世界,納米科技飛速發(fā)展,納米結(jié)構(gòu)的復(fù)雜程度、尺寸和性能都在不斷提高。獲得更小特征尺寸的納米結(jié)構(gòu)以及其組裝結(jié)構(gòu)是越來越多科研人員的目標。為了獲得更小特征尺寸的納米結(jié)構(gòu),科研人員開發(fā)了多種微納加工技術(shù),如電子束直寫光刻、聚焦離子束刻蝕、激光干涉光刻和納

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