伴隨現(xiàn)代科學技術(shù)的發(fā)展,光學元器件被廣泛使用,所以光學材料表面實現(xiàn)超光滑加工變得越來越重要。為解決傳統(tǒng)磨粒流拋光效率相對較低的問題,提出了水力空化氣液固三相磨粒流拋光方法。該方法利用異形文丘里管結(jié)構(gòu)產(chǎn)生空化效應,空化產(chǎn)生的微射流加速磨粒與工件的碰撞,從而提高磨粒流拋光效率。本文主要完成的工作如下:（1）理論研究:在課題組原有將氣泡直接通入軟性磨粒流形成氣液固三相磨粒流基礎(chǔ)上,分析空化產(chǎn)生的機理,嘗試將常規(guī)文丘里管的結(jié)構(gòu)進行改造,改造后的異形文丘里管自發(fā)空化產(chǎn)生氣泡,利用氣泡潰滅效應提高材料去除。（2）數(shù)值分析:基于mixture多相流計算方法,利用realize k-ε湍流模型和Singhl空化模型,建立了氣液兩相流流體空化力學模型,通過數(shù)值模擬計算結(jié)果驗證了本文所提空化結(jié)構(gòu)的可行性,并明確了流場特性和空化特性,獲得優(yōu)化結(jié)構(gòu)尺寸,即本文中的角度α取55°,L_B尺寸取0.9mm,L_C尺寸取1.0mm。（3）實驗平臺設(shè)計:基于異形文丘里管的結(jié)構(gòu)特點,設(shè)計了相對應的機械結(jié)構(gòu),建立了整套全自動循環(huán)的氣液固三相磨粒流加工實驗平臺,包括管道的穩(wěn)定性與安全... 

【文章來源】：浙江工業(yè)大學浙江省

【文章頁數(shù)】：79 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

單晶硅

題的來源論文來源于國家自然科學基金委面上項目——面約束流場中空化沖學規(guī)律及其壁面效應可控性研究（項目編號：51575494）。究背景及研究現(xiàn)狀研究背景十世紀七十年代以來，半導體技術(shù)、現(xiàn)代電子信息技術(shù)不斷更新?lián)Q代工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)生產(chǎn)的工藝產(chǎn)品不斷向著精密化、環(huán)�；⒓苫�、展，對于軍工、航天、航空、天文等領(lǐng)域內(nèi)需要大量的不同口徑與璃如圖 1-2 的 K9 玻璃以及半導體元器件[1-4]，例如在現(xiàn)代飛機制造中統(tǒng)中使用的特殊構(gòu)造異形棱鏡，手機制造中的各種攝像鏡頭如圖 1-達到 7nm 級別的 COMS 半導體元器件、天文望遠鏡中低色散玻璃 1-1 為單晶硅，用于制造半導體器件和太陽能電池等。

半導體技術(shù)、現(xiàn)代電子信息技術(shù)域內(nèi)生產(chǎn)的工藝產(chǎn)品不斷向著精密化、環(huán)�；姽ぁ⒑教�、航空、天文等領(lǐng)域內(nèi)需要大量的2 的 K9 玻璃以及半導體元器件[1-4]，例如在現(xiàn)代特殊構(gòu)造異形棱鏡，手機制造中的各種攝像鏡 級別的 COMS 半導體元器件、天文望遠鏡中晶硅，用于制造半導體器件和太陽能電池等。圖 1-1 單晶硅 圖 1-2 K9 玻璃-1. Single crystal silicon Figure 1-2. K9 g


本文編號：3442638