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基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究

發(fā)布時(shí)間:2022-10-19 20:58
 。颊颈疚闹饕獓@垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)中的濕法氧化工藝開(kāi)展研究,通過(guò)閱讀大量相關(guān)文獻(xiàn),了解垂直腔面發(fā)射激光器的制造工藝,并通過(guò)分析設(shè)計(jì)濕法氧化工藝參數(shù),實(shí)現(xiàn)VCSEL芯片濕法氧化速率精確控制的工藝要求。垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)由于其具有單縱模工作、閾值電流低、圓形光斑易于與光纖耦合、易于集成二維陣列等優(yōu)勢(shì),已經(jīng)成為光互連,光通信,紅外識(shí)別,激光顯示,激光照明(Tatum J 

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【部分圖文】:

基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究


氧化臺(tái)面刻蝕形貌圖

基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究


氧化深度測(cè)量示意圖;(b)氧化深度與氧化時(shí)間關(guān)系曲線

基于垂直腔面發(fā)射激光器的濕法氧化速率研究


理論擬合曲線與實(shí)際實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)


本文編號(hào):3694094

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