1064nm激光預處理對HfO 2 /SiO 2 反射膜損傷形態(tài)轉化影響研究
發(fā)布時間:2021-03-21 00:27
實驗研究了不同激光預處理參數(shù)對于納秒激光多脈沖作用下HfO2/SiO2反射膜損傷形態(tài)轉化的影響。通過對比兩類損傷擴張性和對薄膜功能性破壞機制,提出激光預處理技術的重要意義在于抑制損傷形態(tài)轉化過程。通過薄膜損傷形態(tài)分析揭示了激光預處理作用機制為節(jié)瘤缺陷的去除和亞表面吸收前驅體的形成兩方面的綜合作用。實驗結果表明:預處理后薄膜損傷形態(tài)轉化特征曲線向更高通量和更多發(fā)次方向平移。針對現(xiàn)有工藝下的薄膜,采用高通量、兩臺階的預處理參數(shù)組合能夠獲得兼顧效率的最佳收益,其零幾率損傷形態(tài)轉化閾值最高可以提升140%。
【文章來源】:紅外與激光工程. 2017,46(06)北大核心EICSCD
【文章頁數(shù)】:7 頁
【文章目錄】:
0 引言
1 損傷形態(tài)分類與形態(tài)轉化
2 實驗條件
3 結果與討論
3.1 激光預處理參數(shù)對損傷形態(tài)轉化影響
3.2 激光預處理機制
4 結論
【參考文獻】:
期刊論文
[1]532nm HfO2/SiO2高反膜的激光預處理效應[J]. 劉杰,張偉麗,朱美萍. 強激光與粒子束. 2015(03)
[2]中等口徑光斑激光預處理[J]. 鄭軼,劉志超,馬平,陳松林,張清華. 強激光與粒子束. 2013(12)
[3]1064nm激光多脈沖下HfO2/SiO2高反膜損傷規(guī)律[J]. 劉志超,陳松林,羅晉,潘峰,李樹剛. 紅外與激光工程. 2012(05)
[4]電子束蒸發(fā)制備HfO2/SiO2高反膜的1064 nm激光預處理效應[J]. 劉曉鳳,李大偉,李笑,趙元安,邵建達. 中國激光. 2009(06)
本文編號:3091952
【文章來源】:紅外與激光工程. 2017,46(06)北大核心EICSCD
【文章頁數(shù)】:7 頁
【文章目錄】:
0 引言
1 損傷形態(tài)分類與形態(tài)轉化
2 實驗條件
3 結果與討論
3.1 激光預處理參數(shù)對損傷形態(tài)轉化影響
3.2 激光預處理機制
4 結論
【參考文獻】:
期刊論文
[1]532nm HfO2/SiO2高反膜的激光預處理效應[J]. 劉杰,張偉麗,朱美萍. 強激光與粒子束. 2015(03)
[2]中等口徑光斑激光預處理[J]. 鄭軼,劉志超,馬平,陳松林,張清華. 強激光與粒子束. 2013(12)
[3]1064nm激光多脈沖下HfO2/SiO2高反膜損傷規(guī)律[J]. 劉志超,陳松林,羅晉,潘峰,李樹剛. 紅外與激光工程. 2012(05)
[4]電子束蒸發(fā)制備HfO2/SiO2高反膜的1064 nm激光預處理效應[J]. 劉曉鳳,李大偉,李笑,趙元安,邵建達. 中國激光. 2009(06)
本文編號:3091952
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