本文選題：駐波 + 均勻性��； 參考：《物理學(xué)報(bào)》2017年04期

【摘要】：螺旋波放電具有很高的耦合效率,作為一種高密度等離子體源在材料表面處理、薄膜沉積、離子推進(jìn)器等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景.不同的波模式下能量耦合的方式直接關(guān)系到源區(qū)的等離子體分布,進(jìn)而影響擴(kuò)散腔中材料的處理和沉積薄膜的均勻性.本文通過(guò)電特性(功率-電流)曲線(xiàn)、增強(qiáng)型電荷耦合相機(jī)和磁探針診斷等方式對(duì)螺旋波等離子體源中出現(xiàn)的角向不均勻性進(jìn)行研究,認(rèn)為天線(xiàn)下端出現(xiàn)的駐波螺旋波可能是造成這種現(xiàn)象的關(guān)鍵因素.
[Abstract]:Spiral wave discharge has high coupling efficiency. As a high density plasma source, it has a broad application prospect in the field of material surface treatment, thin film deposition, ion propeller and so on. The mode of energy coupling in different wave modes is directly related to the plasma distribution in the source region, thus affecting the treatment of materials in the diffusion cavity and the homogeneity of the deposited films. In this paper, the angular inhomogeneity in the helical wave plasma source is studied by means of the electric characteristic (power current) curve, the enhanced charge coupling camera and the magnetic probe diagnosis. It is considered that the helical wave at the lower end of the antenna may be the key factor causing this phenomenon.
【作者單位】： 北京印刷學(xué)院等離子體物理及材料研究室;
【基金】：國(guó)家自然基金(批準(zhǔn)號(hào):11375031,11505013) 北京市自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號(hào):4162024,KZ201510015014,KZ04190116009/001,KM201510015009,KM201510015002)資助的課題~~
【分類(lèi)號(hào)】：O53

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本文編號(hào)：2058685