本文關鍵詞：基于雙模成像的液晶微透鏡陣列

  更多相關文章： 成像系統(tǒng) 液晶微透鏡陣列 雙模成像 梯度折射率透鏡 光場成像

【摘要】：利用向列相液晶材料的各向異性和雙折射特點,采用紫外光刻和濕法刻蝕技術,設計并制作了透明的圓孔圖案梯度折射率液晶微透鏡陣列。搭建了光學測試系統(tǒng),測試了該陣列的聚焦性能和焦距,并給出了焦距與加載電壓之間的關系。將該陣列與主鏡頭和圖像傳感器進行耦合,構成一個雙模成像相機原型,通過開啟或關閉加載電壓實現(xiàn)光場成像模式和普通成像模式的快速切換。在兩種工作模式下對目標物采集雙模原始圖像,結果表明該相機既可在光場工作模式下采集三維光場圖像,也可在普通工作模式下采集普通圖像。
【作者單位】： 華中科技大學多譜信息處理技術國家級重點實驗室;石家莊鐵道大學信息科學與技術學院;
【關鍵詞】： 成像系統(tǒng) 液晶微透鏡陣列 雙模成像 梯度折射率透鏡 光場成像
【基金】：國家自然科學基金(61176052;61432007) 中央高�；究蒲袠I(yè)務費專項資金(2014CG008) 高等學校博士學科點專項科研基金(20130142110007) 中國工程物理研究院太赫茲科學技術基金(CAEPTHZ201402)
【分類號】：O439;TP391.41
【正文快照】： 1引言光場成像技術是一種全新的三維成像方式,不僅可以記錄入射光線的強度,還可以記錄入射光線的方向。目前獲取光場的方式主要有三種:微透鏡陣列、相機陣列和掩模相機[1]。其中,微透鏡陣列實現(xiàn)方法簡單,是當前最常用的光場獲取方式,這種方式通過在傳統(tǒng)相機的主鏡頭與圖像傳感

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