本文關(guān)鍵詞：基于六西格瑪?shù)膶?xiě)頭寬度控制改善

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【摘要】：在過(guò)去的近20年間，機(jī)械硬盤(pán)存儲(chǔ)容量量經(jīng)歷了摩爾定律般的指數(shù)級(jí)別發(fā)展，每英寸字節(jié)的容量密度由約不到1Gb（吉字節(jié)）膨脹到如今900Gb，而其價(jià)格由超過(guò)800美元每吉字節(jié)下降到目前約6.33美分每吉字節(jié)。如此高速發(fā)展的存儲(chǔ)技術(shù)使得行業(yè)發(fā)展和競(jìng)爭(zhēng)異常激烈，硬盤(pán)制造商由最初超過(guò)200家，經(jīng)歷倒閉、轉(zhuǎn)行和吞并，到如今只有希捷、西部數(shù)據(jù)和日立三足鼎立。然而在面對(duì)近年全球經(jīng)濟(jì)衰退，閃存技術(shù)異軍突起和機(jī)械硬盤(pán)存儲(chǔ)容量技術(shù)發(fā)展遭遇瓶頸的情況下，機(jī)械硬盤(pán)行業(yè)生存更加殘酷、競(jìng)爭(zhēng)更為猛烈。 S公司作為機(jī)械硬盤(pán)行業(yè)中的重要的OEM和主要的外部磁頭生產(chǎn)制造供應(yīng)商在業(yè)界要繼續(xù)生存、發(fā)展甚至壯大，除了繼續(xù)不遺余力地發(fā)展新一代磁頭技術(shù)引領(lǐng)行業(yè)發(fā)展外，提供高質(zhì)量、低成本的磁頭產(chǎn)品是必經(jīng)且唯一的生存之道。今非昔比，其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手不再是其他獨(dú)立的磁頭生產(chǎn)商，而是硬盤(pán)制造商內(nèi)部的磁頭生產(chǎn)制造部門(mén)。與S公司相比，他們能到來(lái)自硬盤(pán)制造商內(nèi)部資源的傾斜，能得到更多獨(dú)有的硬盤(pán)技術(shù)支持和特別磁碟配合。因而，要擊敗硬盤(pán)制造商內(nèi)部的磁頭，，只要足夠高的品質(zhì)和足夠低的成本才能吸引硬盤(pán)制造商的訂單。 在當(dāng)今主流的PMR（垂直記錄技術(shù)）磁頭性能中磁頭寫(xiě)頭寬度依然是重要技術(shù)指標(biāo)之一。寫(xiě)頭寬度過(guò)小難以提供足夠強(qiáng)的磁場(chǎng)和寫(xiě)能力去改變磁碟中的磁性顆粒方向達(dá)到記錄數(shù)據(jù)目的。寫(xiě)頭寬度過(guò)大則無(wú)法在有限的磁碟面積中寫(xiě)進(jìn)足夠密的軌道數(shù)，即是影響記錄磁密度。因而，使得每個(gè)磁頭的寫(xiě)頭寬度都能做到目標(biāo)值，是保證磁頭性能、產(chǎn)品優(yōu)率和硬盤(pán)寫(xiě)性能的關(guān)鍵之一。也就是在保證磁頭寫(xiě)頭寬度目標(biāo)值同時(shí)，盡可能地把它的離散程度減小，降低標(biāo)準(zhǔn)差，這樣非常有利于保證性能和優(yōu)率，從而達(dá)到高質(zhì)量且低成本的要求。 但是磁頭寫(xiě)頭寬度的標(biāo)準(zhǔn)差改善受制參數(shù)非常多，從上游的圓晶制造工序，到磁頭制造研磨工序，最后到動(dòng)態(tài)測(cè)試工序都存在各種各樣的影響因素。如何將這些因素一一甄別，找出重要關(guān)鍵的控制點(diǎn)，進(jìn)行必要而且恰當(dāng)?shù)膬?yōu)化，從而到達(dá)顯著的改善目的？這就需要應(yīng)用六西格瑪管理技術(shù)，以DMAIC的邏輯思維心法作為指導(dǎo)，各種數(shù)據(jù)分析和工序控制工具為輔助，對(duì)寫(xiě)頭寬度離散率改善開(kāi)發(fā)進(jìn)行分析、研究、改善、驗(yàn)證和執(zhí)行應(yīng)用。本文就這個(gè)改善項(xiàng)目課題進(jìn)行探討，并提出一些可行方案，最后努力達(dá)成目標(biāo)。在這過(guò)程中同時(shí)也初步探討六西格瑪管理在國(guó)內(nèi)制造業(yè)發(fā)展遇到的機(jī)遇和執(zhí)行問(wèn)題。
【關(guān)鍵詞】：寫(xiě)頭寬度 六西格瑪管理
【學(xué)位授予單位】：華南理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2014
【分類(lèi)號(hào)】：TP333.35
【目錄】：

• 摘要5-6
• Abstract6-10
• 圖表清單10-13
• 第一章 緒論13-24
• 1.1 研究意義13-17
• 1.1.1 硬盤(pán)行業(yè)發(fā)展?fàn)顩r13-15
• 1.1.2 公司背景及發(fā)展戰(zhàn)略15
• 1.1.3 磁頭寫(xiě)頭寬度控制的重要性15-17
• 1.2 六西格瑪管理在國(guó)外內(nèi)發(fā)展?fàn)顩r17-19
• 1.2.1 六西格瑪發(fā)展?fàn)顩r17-18
• 1.2.2 六西格瑪管理基因18-19
• 1.2.3 六西格瑪核心思維與工具19
• 1.3 研究目標(biāo)、研究?jī)?nèi)容及擬解決的關(guān)鍵問(wèn)題19-24
• 1.3.1 研究對(duì)象現(xiàn)狀分析19-21
• 1.3.2 研究目標(biāo)設(shè)定21
• 1.3.3 研究?jī)?nèi)容21-24
• 第二章 寫(xiě)頭寬度控制改善項(xiàng)目定義和測(cè)量階段24-55
• 2.1 寫(xiě)頭寬度控制改善項(xiàng)目定義24-25
• 2.1.1 項(xiàng)目成立的意義24
• 2.1.2 項(xiàng)目的成立24
• 2.1.3 項(xiàng)目的范圍、現(xiàn)狀和目標(biāo)24-25
• 2.2 寫(xiě)頭寬度測(cè)量系統(tǒng)驗(yàn)證25-28
• 2.2.1 動(dòng)態(tài)測(cè)量系統(tǒng)簡(jiǎn)介25-26
• 2.2.2 寫(xiě)頭寬度測(cè)量系統(tǒng) GR&R26-27
• 2.2.3 測(cè)量系統(tǒng)穩(wěn)定性分析27-28
• 2.3 工序穩(wěn)定性分析28-29
• 2.3.1 數(shù)據(jù)收集計(jì)劃28
• 2.3.2 工序穩(wěn)定性分析28-29
• 2.4 工序現(xiàn)狀29
• 2.5 魚(yú)骨圖分析29
• 2.6 工序流程圖分析29-31
• 2.7 工序流程細(xì)圖分析31-34
• 2.8 因果矩陣34-36
• 2.9 第一次 FMEA（失效模式分析）36-38
• 2.10 快速改善38-54
• 2.10.1 晶圓寫(xiě)頭極尖均勻性改善39-42
• 2.10.2 晶圓極尖電阻測(cè)量改善42-45
• 2.10.3 晶圓來(lái)料寫(xiě)頭寬度預(yù)測(cè)模型45-48
• 2.10.4 研磨工序算法改善48-51
• 2.10.5 磁條磁性寫(xiě)寬敏感度優(yōu)化51-54
• 2.11 本章小結(jié)54-55
• 第三章 寫(xiě)頭寬度控制改善項(xiàng)目分析和改善階段55-77
• 3.1 第二次 FMEA55-57
• 3.2 第二輪快速改善57-64
• 3.2.1 研磨工序控制的快速改善58-60
• 3.2.2 磁條寫(xiě)頭磁性寬度補(bǔ)償目標(biāo)值修正60-64
• 3.3 關(guān)鍵因素篩選64-65
• 3.4 關(guān)鍵因素的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)（DOE）65-66
• 3.4.1 研磨工序重要因子——研磨壓力66
• 3.4.2 研磨工序重要因子——磨坯轉(zhuǎn)速66
• 3.5 DOE 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)及其輸出66-67
• 3.6 因子回歸分析和主因效應(yīng)67-70
• 3.7 響應(yīng)曲面回歸70-71
• 3.8 殘差分析71-72
• 3.9 優(yōu)化設(shè)置72-76
• 3.10 本章小結(jié)76-77
• 第四章 寫(xiě)頭寬度控制改善項(xiàng)目控制階段77-85
• 4.1 寫(xiě)頭寬度標(biāo)準(zhǔn)差最終改善效果77
• 4.2 動(dòng)態(tài)測(cè)試優(yōu)率改善效果77-78
• 4.3 財(cái)務(wù)收益78
• 4.4 控制計(jì)劃78-80
• 4.5 關(guān)鍵因素監(jiān)控80-82
• 4.6 標(biāo)準(zhǔn)化文件82
• 4.7 可視化設(shè)置及防錯(cuò)82-84
• 4.8 本章小結(jié)84-85
• 第五章 六西格改善項(xiàng)目總結(jié)85-92
• 5.1 基于六西格瑪?shù)膶?xiě)頭寬度控制改善項(xiàng)目總結(jié)85-87
• 5.2 六西格瑪在 S 公司的推廣87-88
• 5.3 六西格瑪給 S 公司帶來(lái)的收益88-89
• 5.4 六西格瑪項(xiàng)目推廣的困難和挑戰(zhàn)89-90
• 5.5 六西格瑪實(shí)際應(yīng)用需要注意之處90-91
• 5.6 本章小結(jié)91-92
• 結(jié)論92-93
• 參考文獻(xiàn)93-95
• 攻讀碩士學(xué)位期間取得的研究成果95-96
• 致謝96-97
• 附件97

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：847351