納米二氧化硅-石墨烯-六方氮化硼復(fù)合有機(jī)硅涂層的制備及其高溫條件下的摩擦學(xué)性能
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【部分圖文】:
如圖1c所示,GO的XRD譜線在2θ=9.94°(d=8.89?)附近有1個(gè)強(qiáng)峰,該峰是GO在(001)面上的衍射峰;經(jīng)過TETA還原后,RGO-TETA的(001)峰明顯減弱并移至2θ=8.92°(d=9.91?)。這說明未被完全還原的GO減少,并且片層間距顯著擴(kuò)大,其原因是部....
GO在ESR中容易團(tuán)聚。為了研究改性對(duì)GO在ESR中分散性的影響,在ESR溶液中分別加入0.5%GO和0.5%RGO-TETA,并超聲分散1h。從圖2可見,剛超聲分散結(jié)束的未改性GO溶液中立刻有可見的團(tuán)聚物,而RGO-TETA在ESR中的分散性很好,其溶液呈現(xiàn)均勻的黑色。分別靜....
因?yàn)镚O和ESR都有C和O元素,并且ESR也含有Si元素,所以EDS結(jié)果無法準(zhǔn)確地辨別出GO和納米SiO2單個(gè)顆粒。但是由圖3可知幾種元素都呈均勻分散的狀態(tài),可以判定GO、納米SiO2和h-BN在復(fù)合涂層中的分散是均勻的,這有利于納米填料充分發(fā)揮出自身性能。從圖4可見,Si....
從圖4可見,SiO2–RGO–h-BN/ESR復(fù)合涂料在剛制成時(shí)填料分布均勻,各填料的分散性均良好。經(jīng)過30min靜置后,復(fù)合涂料仍無明顯變化;而經(jīng)過5h靜置后,僅底部出現(xiàn)極少量沉淀,各填料仍表現(xiàn)出良好的分散穩(wěn)定性,能夠滿足涂料的實(shí)際應(yīng)用要求。2.3SiO2–RGO–h....
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