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納米二氧化硅-石墨烯-六方氮化硼復(fù)合有機(jī)硅涂層的制備及其高溫條件下的摩擦學(xué)性能

發(fā)布時(shí)間:2024-10-29 18:36
   利用三乙烯四胺(TETA)改性氧化石墨烯(GO)以提高其分散性,并通過紅外光譜儀、拉曼光譜儀和X射線衍射儀分析了改性后得到的RGO-TETA的結(jié)構(gòu)。結(jié)果表明TETA成功接入了GO。將RGO-TETA、納米SiO2和六方氮化硼(h-BN)球磨混合成復(fù)合粉體,并加到環(huán)氧改性有機(jī)硅樹脂(ESR)中制得復(fù)合涂料,再涂覆在316L不銹鋼表面制成SiO2–RGO–h-BN/ESR復(fù)合涂層。利用高速往復(fù)式摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)研究了不同納米SiO2填充量的復(fù)合涂層在200°C溫度條件以及含4%納米SiO2的復(fù)合涂層在室溫至250°C范圍內(nèi)的摩擦學(xué)性能,探討了復(fù)合涂層的磨損機(jī)制。由于形成了轉(zhuǎn)移膜,納米SiO2填充量為4%的SiO2–RGO–h-BN/ESR復(fù)合涂層在200°C下具有最佳的耐磨性,磨損率相較于150°C時(shí)降低了76.7%。

【文章頁數(shù)】:7 頁

【部分圖文】:

納米二氧化硅-石墨烯-六方氮化硼復(fù)合有機(jī)硅涂層的制備及其高溫條件下的摩擦學(xué)性能



如圖1c所示,GO的XRD譜線在2θ=9.94°(d=8.89?)附近有1個(gè)強(qiáng)峰,該峰是GO在(001)面上的衍射峰;經(jīng)過TETA還原后,RGO-TETA的(001)峰明顯減弱并移至2θ=8.92°(d=9.91?)。這說明未被完全還原的GO減少,并且片層間距顯著擴(kuò)大,其原因是部....


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GO在ESR中容易團(tuán)聚。為了研究改性對(duì)GO在ESR中分散性的影響,在ESR溶液中分別加入0.5%GO和0.5%RGO-TETA,并超聲分散1h。從圖2可見,剛超聲分散結(jié)束的未改性GO溶液中立刻有可見的團(tuán)聚物,而RGO-TETA在ESR中的分散性很好,其溶液呈現(xiàn)均勻的黑色。分別靜....


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因?yàn)镚O和ESR都有C和O元素,并且ESR也含有Si元素,所以EDS結(jié)果無法準(zhǔn)確地辨別出GO和納米SiO2單個(gè)顆粒。但是由圖3可知幾種元素都呈均勻分散的狀態(tài),可以判定GO、納米SiO2和h-BN在復(fù)合涂層中的分散是均勻的,這有利于納米填料充分發(fā)揮出自身性能。從圖4可見,Si....


納米二氧化硅-石墨烯-六方氮化硼復(fù)合有機(jī)硅涂層的制備及其高溫條件下的摩擦學(xué)性能



從圖4可見,SiO2–RGO–h-BN/ESR復(fù)合涂料在剛制成時(shí)填料分布均勻,各填料的分散性均良好。經(jīng)過30min靜置后,復(fù)合涂料仍無明顯變化;而經(jīng)過5h靜置后,僅底部出現(xiàn)極少量沉淀,各填料仍表現(xiàn)出良好的分散穩(wěn)定性,能夠滿足涂料的實(shí)際應(yīng)用要求。2.3SiO2–RGO–h....



本文編號(hào):4008463

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