為了避免微弧氧化(MAO)過(guò)程中的持續(xù)電弧放電對(duì)膜層的破壞,使用高速攝像機(jī)拍攝放電現(xiàn)象,結(jié)合負(fù)載的電流、電壓波形探究持續(xù)電弧放電的實(shí)質(zhì),并研究了膜層被破壞區(qū)域的表面、截面形貌及相組成相對(duì)于正常膜層的變化,最后搭配不同的占空比和頻率,探索出電參數(shù)對(duì)持續(xù)電弧放電現(xiàn)象的影響規(guī)律。結(jié)果表明:在微弧氧化過(guò)程中,試樣表面呈現(xiàn)出燃弧-熄弧-冷卻的往復(fù)過(guò)程,而膜層局部破壞區(qū)域則表現(xiàn)為連續(xù)的電弧放電現(xiàn)象。局部持續(xù)電弧放電區(qū)域的組分結(jié)構(gòu)、表面形貌、截面形貌及元素分布均與正常微弧氧化膜層有很大差異,該膜層的均勻性、致密性和完整性均被破壞,導(dǎo)致膜層整體的均一性喪失,甚至造成試樣的外形尺寸發(fā)生嚴(yán)重的損傷。負(fù)載的電容特性導(dǎo)致電弧持續(xù)時(shí)間過(guò)長(zhǎng)而熔融金屬氧化物的冷卻時(shí)間不足,局部熱交換不充分和熱量集中是造成持續(xù)電弧破壞根本原因。該破壞發(fā)生后無(wú)法修復(fù),然而可以通過(guò)對(duì)頻率和占空比的合理搭配,在不同的處理電壓下避免持續(xù)電弧破壞現(xiàn)象的發(fā)生。

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【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)
2 結(jié)果與分析
    2.1 局部持續(xù)電弧破壞電壓、電流波形及電弧特點(diǎn)
    2.2 正常微弧氧化膜與持續(xù)電弧破壞膜的結(jié)構(gòu)與成分
    2.3 局部持續(xù)電弧對(duì)膜層的破壞機(jī)制及避免其破壞的電參數(shù)設(shè)計(jì)
3 結(jié)論



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