發(fā)布時間：2017-09-27 08:23

  本文關鍵詞：3.5%NaCl溶液中Ni-Co鍍層失效過程的EIS研究

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【摘要】：采用電化學阻抗譜(EIS)技術對電沉積Ni-Co鍍層在3.5%NaCl溶液中的腐蝕失效過程進行了研究,發(fā)現可采用4種等效電路對鍍層的失效過程進行擬合:浸泡初期,鍍層耐蝕性能良好,可以簡單的等效為鍍層電阻與鍍層電容的并聯;浸泡一段時間后,鍍層/金屬界面上發(fā)生腐蝕反應,引入了雙電層電容和界面電荷轉移電阻;浸泡后期,界面上的腐蝕產物產生積累,引入反映腐蝕產物信息的Warburg電阻元件;當腐蝕產物的積累影響到腐蝕介質的擴散時,引入了擴散電阻和擴散電容。通過對失效過程中鍍層電阻和電容隨時間的變化曲線進行分析,發(fā)現Ni-Co鍍層在3.5%NaCl溶液中的失效過程可分為3個階段:腐蝕介質的滲透階段,界面金屬的腐蝕階段和鍍層的失效階段。
【作者單位】： 南京電子器件研究所;
【關鍵詞】： 電化學阻抗譜 Ni-Co鍍層 失效過程
【分類號】：TG174.4
【正文快照】： 定稿日期:2016-02-031前言電沉積Ni-Co鍍層因其優(yōu)良的物理、化學和力學性能而有著廣泛的用途[1-5]。近年來國內外學者對電沉積Ni-Co鍍層做了許多研究[5-11],但大多數集中于Ni-Co或Co-Ni的電沉積機理方面,以及工藝參數和添加劑等鍍液成分對Ni-Co鍍層組織結構、成分和性能的影響

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本文編號：928629