過渡金屬氧化物催化析氧反應研究進展
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圖3雜原子摻雜增強過渡金屬氧化物(TMOs)的析氧活性Fig.3HeteroatomdopingforenhancingOERactivityofTMOs
圖3雜原子摻雜增強過渡金屬氧化物(TMOs)的析氧活性Fig.3HeteroatomdopingforenhancingOERactivityofTMOs圖4構(gòu)筑異相界面增強OER活性
圖4構(gòu)筑異相界面增強OER活性
圖3雜原子摻雜增強過渡金屬氧化物(TMOs)的析氧活性Fig.3HeteroatomdopingforenhancingOERactivityofTMOs圖4構(gòu)筑異相界面增強OER活性
圖3雜原子摻雜增強過渡金屬氧化物(TMOs)的析氧活性Fig.3HeteroatomdopingforenhancingOERactivityofTMOs
(1)氧空位:過渡金屬氧化物晶體結(jié)構(gòu)中的氧,在特定條件下易脫離晶格,造成晶格中氧缺失,形成帶正電的氧空位。氧空位在過渡金屬氧化物中能降低帶隙,提高HOMO能級和費米能級,顯著提升催化劑的析氧活性[94-95]。富含氧空位的催化劑可由多種方法制備。比如,通過氧等離子體刻蝕法制備的富....
圖4構(gòu)筑異相界面增強OER活性
圖4構(gòu)筑異相界面增強OER活性(2)陽離子空位:作為一種很重要的缺陷位類型,陽離子空位也被利用來設(shè)計高活性的析氧催化劑。由于晶體整體呈中性,陽離子空位會導致鄰近金屬離子化學價上升,使催化劑析氧活性增加。Jaramillo課題組[99]最早發(fā)現(xiàn)陽離子空位能促進析氧反應。當SrIr....
本文編號:3965242
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