電鍍污泥中銅鎳浸出條件的選取及PtCuNi合金電極的制備與電氧化性能研究
發(fā)布時間:2021-08-14 14:02
電鍍污泥中含有多種重金屬離子,如不予處理隨意堆放,不僅污染環(huán)境更是資源的浪費。本論文主要探究鈣基電鍍污泥中Cu、Ni金屬浸出條件的選取,并嘗試跨越金屬回收至高附加值催化材料制備過程中的分離提純和重新配比的過程,直接把廢液應用到合金和催化材料的制備上,制備合金催化劑CuNi/GC,利用化學置換法制備PtCuNi/GC合金催化劑電極。通過研究合金催化劑PtCuNi/GC對醇的電氧化性能,初步探究廢舊金屬作為催化材料基體應用的可能性。研究結(jié)果如下:1、傳統(tǒng)的方式是用硫化物如Na2S、(NH4)2S等作為處理劑處理電鍍污泥,該方法存在一定缺陷。首先硫元素本身及其形成的H2S等物質(zhì)對人體和環(huán)境均有傷害。其次,加硫化物不利于金屬的回收。本論文以浙江某電鍍廠的電鍍污泥為處理對象。該電鍍污泥是經(jīng)合作公司研發(fā)出的Ca鹽混合物處理而成,Ca鹽本身無毒,可使電鍍污泥中含有更少的雜質(zhì),更利于后續(xù)浸取條件的選取及金屬的提取。處理后的電鍍污泥用不同的酸和氨水溶解電鍍污泥,對溶解后的產(chǎn)物進行干計稱重,最佳的溶解劑為硫酸。用分光光...
【文章來源】:浙江工業(yè)大學浙江省
【文章頁數(shù)】:93 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
五種電沉積生長模式
意圖[54]:(a)金屬電沉積原理;(b)a-金屬離子;b-d-扭折點;e-空位tic sketch of electrodeposition:(a)the principle of metal eetal cation; b-adatom; c-step site; d-kink site;e-vacant site個多步驟相對復雜的過程,其沉積的過程大致包液中的金屬陽離子向電極界面附近進行傳輸,離子 b(過程 1)。然后是吸附態(tài)的金屬原子在載體臺階位 c 結(jié)合以生成新的晶核(過程 3、4)。如吸附的金屬原子進行束縛,則金屬原子會失去電離子(過程 2)。最理想的情況則是金屬原子在進行,新產(chǎn)生的吸附原子通過擴散會到達臺階位置 d,最后會進入到金屬晶格中并相應的析
得的吸光度與相應的銅含量即可繪制出校準曲線,測得的數(shù)據(jù)如表 2.3 銅含量和吸光度關(guān)系Tab 2.3 The relationship between copper content and absorbance含銅量/吸光度0 0.0081.0 0.0522.0 0.1123.0M 0.1744.0 0.2465.0 0.315
本文編號:3342597
【文章來源】:浙江工業(yè)大學浙江省
【文章頁數(shù)】:93 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
五種電沉積生長模式
意圖[54]:(a)金屬電沉積原理;(b)a-金屬離子;b-d-扭折點;e-空位tic sketch of electrodeposition:(a)the principle of metal eetal cation; b-adatom; c-step site; d-kink site;e-vacant site個多步驟相對復雜的過程,其沉積的過程大致包液中的金屬陽離子向電極界面附近進行傳輸,離子 b(過程 1)。然后是吸附態(tài)的金屬原子在載體臺階位 c 結(jié)合以生成新的晶核(過程 3、4)。如吸附的金屬原子進行束縛,則金屬原子會失去電離子(過程 2)。最理想的情況則是金屬原子在進行,新產(chǎn)生的吸附原子通過擴散會到達臺階位置 d,最后會進入到金屬晶格中并相應的析
得的吸光度與相應的銅含量即可繪制出校準曲線,測得的數(shù)據(jù)如表 2.3 銅含量和吸光度關(guān)系Tab 2.3 The relationship between copper content and absorbance含銅量/吸光度0 0.0081.0 0.0522.0 0.1123.0M 0.1744.0 0.2465.0 0.315
本文編號:3342597
本文鏈接:http://www.sikaile.net/kejilunwen/huanjinggongchenglunwen/3342597.html
最近更新
教材專著