電位計(jì)噴涂加工碳膜不穩(wěn)定層分析及其去除裝置研制
【圖文】:
圖 1-2 直線型碳膜電位計(jì)電阻膜片,其加工質(zhì)量的好壞通常以電阻值變化的線電阻膜片碳膜層噴涂的均勻性,所以碳膜層過(guò)程是將上述混合電阻液按比例配制以氣泡的表面上,此時(shí)電阻液氣、液、固三態(tài)均存下膠體石墨粉會(huì)下降,,同時(shí)為排除電阻液內(nèi)加快加工過(guò)程,所以會(huì)對(duì)碳膜片進(jìn)行烘干工物質(zhì)分布不均勻,發(fā)生變化形成分層,下層較好的有效碳膜層,上層則為石墨顆粒分布而該不穩(wěn)定層的存在有以下弊端:層導(dǎo)電性較差,實(shí)際加工中由于未能一次達(dá)不穩(wěn)定層會(huì)導(dǎo)致多次噴涂之后碳膜層導(dǎo)電性層粘附性較差且易干裂,如未處理則會(huì)導(dǎo)致成脫落,嚴(yán)重影響碳膜層的有效形成,降低品無(wú)法達(dá)標(biāo)。
哈爾濱工業(yè)大學(xué)工程碩士學(xué)位論文aworek[9]通過(guò)單點(diǎn)噴嘴或組合噴嘴的逐點(diǎn)技術(shù)具體研究了電噴,表面涂層,微納米復(fù)合膜層材料生產(chǎn)的應(yīng)用,見(jiàn)下圖 1-5mad Rashad[10]進(jìn)行了霧化器幾何特性對(duì)電控霧化錐角的影響應(yīng)最佳參數(shù);J.L. Castillo[11]通過(guò)改變電噴霧流速探究對(duì)膜層制影響,得出膜層材料的孔隙率與流速成正比的規(guī)律。Rui Ma[1力和氣壓對(duì)噴霧角度和速度場(chǎng)的影響,得出空氣壓力較液體壓和顆粒速度影響更大。Cunxi Liu[13]研究了煤油在壓力旋流器中式下液滴尺寸空間分布,平均液滴尺寸和壓力差變化,提供了據(jù)庫(kù)并驗(yàn)證了噴霧模型。
【學(xué)位授予單位】:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類(lèi)號(hào)】:V261
【相似文獻(xiàn)】
相關(guān)期刊論文 前10條
1 許國(guó)基,關(guān)守仁,羅興華,孟祥金;碳膜制備和厚度測(cè)量的研究[J];中國(guó)核科技報(bào)告;1988年00期
2 許國(guó)基,關(guān)守仁;碳膜制備和厚度測(cè)量的研究[J];中國(guó)核科技報(bào)告;1988年S2期
3 K.Sugihara ,M.S.Dresselhans ,潘鼎;薄膜碳的電導(dǎo)率[J];新型碳材料;1988年03期
4 ;小經(jīng)驗(yàn)[J];電氣時(shí)代;1989年05期
5 田芳;劉政;田曉輝;;黃銅管殘?zhí)寄こ煞謾z驗(yàn)[J];東北電力技術(shù);2015年05期
6 劉忻;;黃銅管材內(nèi)壁碳膜中碳量的測(cè)定[J];上海金屬.有色分冊(cè);1992年05期
7 郭凡修;徐端夫;朱麗蘭;;利用液面沉降法撈取碳膜[J];電子顯微學(xué)報(bào);1985年01期
8 萬(wàn)早雁;張琳;朱順官;易鎮(zhèn)鑫;;一種碳膜橋的點(diǎn)火特性研究[J];火工品;2017年02期
9 高金海;李楨;張武勤;張兵臨;;復(fù)合發(fā)光碳膜[J];光電子技術(shù);2014年01期
10 夏寒;王世穎;光崎尚利;陳智棟;;水溶液體系中304不銹鋼上電沉積碳膜的研究[J];電鍍與精飾;2018年07期
相關(guān)會(huì)議論文 前10條
1 陳建敏;;超潤(rùn)滑碳膜的研究與應(yīng)用[A];先進(jìn)潤(rùn)滑抗磨材料研討會(huì)論文集(PPT版)[C];2007年
2 董仁杰;徐偉;蓋秀貞;丁明孝;;一種用于暗場(chǎng)電鏡術(shù)的超薄碳膜制備方法[A];第三次中國(guó)電子顯微學(xué)會(huì)議論文摘要集(二)[C];1983年
3 朱小琴;杭凌俠;;不同的真空熱處理方式對(duì)碳膜性能的影響[A];TFC'07全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2007年
4 王永欣;王立平;張廣安;薛群基;;無(wú)氫類(lèi)石墨碳膜制備及其摩擦學(xué)性能研究[A];2009年全國(guó)青年摩擦學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2009年
5 N.Cue;郝士琢;蔣增學(xué);楊百方;師勉恭;繆競(jìng)威;;1.6Mev D_2~+通過(guò)碳膜的透射[A];第五次核物理會(huì)議資料匯編(上冊(cè))[C];1982年
6 陳祝平;楊光;;液相等離子沉積非晶態(tài)碳膜的試驗(yàn)研究[A];第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集(10)[C];2007年
7 徐幸梓;王必本;高鳳英;張力;曾丁丁;;離子轟擊碳膜形成碳尖端的研究[A];2007高技術(shù)新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展研討會(huì)暨《材料導(dǎo)報(bào)》編委會(huì)年會(huì)論文集[C];2007年
8 王玉江;馬欣新;唐光澤;徐濱士;;等離子體基離子注入電壓對(duì)碳膜化學(xué)結(jié)構(gòu)及摩擦學(xué)性能的影響[A];2011年全國(guó)青年摩擦學(xué)與表面工程學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2011年
9 杜軍;于芳麗;趙軍軍;蔡志海;;磁控濺射含Ti/Cr碳膜的成分和微觀結(jié)構(gòu)分析[A];TFC'07全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2007年
10 杜軍;;碳膜的摩擦學(xué)性能評(píng)價(jià)及與CrCuN鍍層耐磨性能比較[A];2009年全國(guó)青年摩擦學(xué)學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2009年
相關(guān)重要報(bào)紙文章 前2條
1 廣西 陳功任;遙控器碳膜斷線連接法[N];電子報(bào);2004年
2 遼寧 于紀(jì)暄;用導(dǎo)電膠修復(fù)碳膜斷線[N];電子報(bào);2005年
相關(guān)博士學(xué)位論文 前6條
1 陳瑩;熔鹽陽(yáng)極電沉積碳膜的研究[D];東北大學(xué);2017年
2 顏永紅;摻胺氫化碳膜的特性與應(yīng)用研究[D];湖南大學(xué);2001年
3 王琦;含類(lèi)富勒烯氫化碳膜的制備及其特性研究[D];蘭州大學(xué);2009年
4 劉韌;前驅(qū)體聚酰亞胺薄膜梯度升溫制備碳膜過(guò)程中的結(jié)構(gòu)演變與性能研究[D];山東大學(xué);2014年
5 宋秋實(shí);熔鹽電沉積碳膜的研究[D];東北大學(xué);2012年
6 遇世友;導(dǎo)電碳膜的靜電自組裝制備及其直接電沉積銅研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2015年
相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條
1 李淵;電位計(jì)噴涂加工碳膜不穩(wěn)定層分析及其去除裝置研制[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2019年
2 劉三湖;帶電粒子輻照對(duì)集中衰減器碳膜結(jié)構(gòu)與吸波性能的影響[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2019年
3 劉騰;碳膜對(duì)聚己二酸丁二酯晶型轉(zhuǎn)變及其熔融行為影響的研究[D];北京化工大學(xué);2018年
4 李揚(yáng);陰極模式/陽(yáng)極模式制備無(wú)定型碳膜[D];大連理工大學(xué);2013年
5 欒亞;磁控濺射參數(shù)對(duì)含鉻類(lèi)石墨碳膜沉積速率、組織與性能影響的研究[D];西安理工大學(xué);2006年
6 何豐;納米孔碳膜的制備及性能研究[D];天津大學(xué);2005年
7 周立靜;定向冷凍法制備SPEEK-PVA定向微孔碳膜及應(yīng)用[D];大連理工大學(xué);2013年
8 王洋;熔鹽電沉積碳膜的陰極過(guò)程研究[D];東北大學(xué);2011年
9 楊麗雯;摻鉻類(lèi)石墨碳膜在潤(rùn)滑油條件下的摩擦學(xué)性能研究[D];陜西理工學(xué)院;2015年
10 亓淑英;以聚酰亞胺薄膜為原料制備碳膜的結(jié)構(gòu)與性能的研究[D];北京化工大學(xué);2006年
本文編號(hào):2641302
本文鏈接:http://www.sikaile.net/kejilunwen/hangkongsky/2641302.html