本文關(guān)鍵詞：基于電鍍均勻性改善的一些創(chuàng)新與改進(jìn)，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：針對(duì)電鍍過(guò)程中電鍍槽、陽(yáng)極遮板、噴管、擋電邊條、陰極浮架等影響電鍍均勻性的硬件部分,對(duì)其合理布局和設(shè)計(jì)等提出了具體要求,為提升電鍍均勻性提出改善依據(jù)及思路。
【作者單位】： 博敏電子股份有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 電鍍均勻性 電鍍槽 陽(yáng)極遮板 噴管 擋電邊條 陰極浮架
【分類號(hào)】：TN41
【正文快照】： 0前言自20世紀(jì)0年代后期起,電鍍行業(yè)在第三次產(chǎn)業(yè)革命的推動(dòng)下得到了長(zhǎng)足的進(jìn)步,給包括印制電路板行業(yè)在內(nèi)的各行各業(yè)帶來(lái)了技術(shù)的突飛猛進(jìn)和飛速發(fā)展。到目前為止,人們對(duì)電鍍技術(shù)的應(yīng)用已日趨成熟,并促進(jìn)電鍍工藝不斷向低能耗、低物耗、低污染、高質(zhì)量、高效率方向迅速發(fā)展。

【相似文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：461783