傳統(tǒng)弧后鞘層生長連續(xù)過渡模型（continuous transition model, CTM）可以對弧后粒子的運動遷移過程進行研究,且只關注弧后過程,沒有考慮燃弧過程對弧后過程的影響。該文把電流過零前的燃弧過程對弧后粒子的遷移運動和擴散衰減的影響體現(xiàn)到傳統(tǒng)CTM模型中,建立了改進CTM模型,此改進模型是關于電弧電流頻率的函數(shù)。通過改進CTM模型,研究發(fā)現(xiàn)在50～50 000 Hz頻率范圍內,頻率隨弧后鞘層的生長快慢不呈線性關系,而是隨著頻率的升高鞘層生長先變緩后又變快。隨著頻率的增加,快速離子和慢速離子在鞘層生長過程中的主導作用會發(fā)生轉化,當快速離子占主導作用時,鞘層生長較快,相反慢速離子占主導,鞘層生長較慢。研究結果可以指導機械式真空直流斷路器中頻反向電流頻率的選擇。 

【文章頁數(shù)】：7 頁

【文章目錄】：
0引言
1 考慮燃弧過程的改進CTM模型
    1.1 傳統(tǒng)CTM模型
    1.2 燃弧過程產生的金屬蒸氣密度
    1.3 考慮燃弧過程的改進CTM模型
2 基于改進CTM模型的弧后鞘層生長參數(shù)計算
    2.1 計算算例參數(shù)
    2.2 不同頻率下的鞘層生長參數(shù)分布
3 中頻反向電流頻率的選擇依據(jù)
4 結論


【參考文獻】：
期刊論文
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博士論文
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本文編號：3670133