基于Pt/TiO 2-x /TiO 2 /TiO 2+x /Pt雙擴(kuò)展憶阻器研究
發(fā)布時(shí)間:2021-09-19 14:13
本文綜述了國內(nèi)外憶阻器研究現(xiàn)狀,分析了惠普憶阻器的結(jié)構(gòu)、原理和主要特點(diǎn)。憶阻器的納米尺度、非易失性和可堆疊性具備設(shè)計(jì)新型大規(guī)模集成電路以延續(xù)甚至突破摩爾定律的能力。憶阻器的運(yùn)算多值性具有設(shè)計(jì)人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)和人工智能模擬計(jì)算機(jī)體系結(jié)構(gòu)潛能。本文進(jìn)一步研究了我們提出的新型雙擴(kuò)展結(jié)構(gòu)憶阻器并制成了實(shí)物樣品,主要開展的研究工作有:1.給出了雙擴(kuò)展納米尺度結(jié)構(gòu)憶阻器(即Pt/TiO2-x/TiO2/TiO2+x/Pt納米結(jié)構(gòu)憶阻器的新結(jié)構(gòu)并成功獲得一項(xiàng)中國發(fā)明專利授權(quán)和兩項(xiàng)美國發(fā)明專利授權(quán))。本論文研究在兩根交叉的鉑納米線之間夾TiO2-x/TiO2/TiO2+x三層納米二氧化鈦半導(dǎo)體薄膜,制備成Pt/TiO2-x/TiO2/TiO2+x/Pt納米結(jié)構(gòu),研究這種雙擴(kuò)展憶阻器模型、工作機(jī)理及其特性。2.根據(jù)離子漂移理論,對(duì)經(jīng)典的惠普型憶阻器提出了新的建模方法,同時(shí)對(duì)比討論了雙擴(kuò)展憶阻器模型特點(diǎn),并且在Matlab和HSPICE等主流電路仿真軟件平臺(tái)下仿真實(shí)現(xiàn)。仿真結(jié)果表明本文憶阻器理論模型更加符合憶阻器實(shí)物測試結(jié)果。研究了基于惠普型憶阻器了讀寫操作的電路結(jié)構(gòu),提出一個(gè)能充分發(fā)揮憶阻器存儲(chǔ)與運(yùn)算特性的...
【文章來源】:黑龍江大學(xué)黑龍江省
【文章頁數(shù)】:126 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
電荷、電流、電壓、磁通量之間關(guān)系圖
圖 1-2 惠普實(shí)驗(yàn)室憶阻器實(shí)物圖Fig.1-2 Figure of HP memristor爾公司的創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出著名的管數(shù)目約每隔 18 個(gè)月便會(huì)增加一倍,性定律的預(yù)言一樣,微電子產(chǎn)業(yè)通過縮小晶性能,實(shí)現(xiàn)了微電子行業(yè)的突飛猛進(jìn),為。通過查閱相關(guān)文獻(xiàn)得知特征尺寸為 0.術(shù)早已成為半導(dǎo)體制造行業(yè)的主流[1][2],而 的特征尺寸已經(jīng)達(dá)到 35 納米。但是伴隨子技術(shù)受極限物理尺寸的限制越來越明過縮小晶體管尺寸已經(jīng)行不通了,微電子管。米電子技術(shù)中,阻變存儲(chǔ)器(RRAM—Re
多成果的研究機(jī)構(gòu)包括惠普實(shí)驗(yàn)室,美國加州大學(xué)與日本東可以使用 SPICE(Simulation program with intergrated circuit e,應(yīng)用惠普等給出的參數(shù)指標(biāo)進(jìn)行仿真和模擬研究。 年惠普實(shí)驗(yàn)室宣布成功研制了第一個(gè)納米級(jí)的憶阻器實(shí)物元以分為三個(gè)方面:阻器理論的研究。阻器物理制備和其交叉陣列的實(shí)現(xiàn)。阻器實(shí)現(xiàn)電子突觸的研究。器理論的研究在第 2 章詳細(xì)介紹。下面先介紹國際上憶阻器 年 8 月,美國加州大學(xué)的 Yu. V. Pershin、M. Di Ventra 等人提型——電子自旋阻塞模型[15][16],其結(jié)構(gòu)如圖 1-3 所示。這種半導(dǎo)體與鐵磁材料接觸處出現(xiàn)的電子遷移受限的現(xiàn)象設(shè)計(jì)而成FM接觸面 SC
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]憶阻器交叉陣列及在圖像處理中的應(yīng)用[J]. 胡小方,段書凱,王麗丹,廖曉峰. 中國科學(xué):信息科學(xué). 2011(04)
[2]納米材料國內(nèi)外研究進(jìn)展Ⅰ——納米材料的結(jié)構(gòu)、特異效應(yīng)與性能[J]. 朱世東,周根樹,蔡銳,韓燕,田偉. 熱處理技術(shù)與裝備. 2010(03)
[3]第四種無源電子元件憶阻器的研究及應(yīng)用進(jìn)展[J]. 蔡坤鵬,王睿,周濟(jì). 電子元件與材料. 2010(04)
[4]納米材料及其應(yīng)用研究進(jìn)展[J]. 馮異,趙軍武,齊曉霞,高芬. 工具技術(shù). 2006(10)
[5]化學(xué)沉積法制備Ni-P納米線與納米管有序陣列[J]. 任鑫,黃新民,張胡海. 物理化學(xué)學(xué)報(bào). 2006(01)
[6]大規(guī)模制備Ni80Fe20納米線陣列及其磁學(xué)特性研究[J]. 符秀麗,王懿,李培剛,陳雷明,張海英,涂清云,L.H.Li,唐為華. 物理學(xué)報(bào). 2005(04)
[7]金屬納米微粒的尺寸效應(yīng)[J]. 齊衛(wèi)宏,汪明樸,徐根應(yīng). 材料導(dǎo)報(bào). 2003(10)
[8]TiO2薄膜的制備方法及應(yīng)用[J]. 吳志猛,張偉強(qiáng),董闖. 真空. 2003(02)
[9]納米物理學(xué)的若干基本問題[J]. 邵明珠,羅詩裕. 漳州師范學(xué)院學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2002(03)
[10]Co納米孔洞模板的制備和磁性[J]. 于冬亮,楊紹光,都有為. 物理學(xué)報(bào). 2002(08)
碩士論文
[1]雙擴(kuò)展憶阻器納米結(jié)構(gòu)模型與特性研究[D]. 馮昌浩.黑龍江大學(xué) 2012
[2]面向數(shù)據(jù)庫應(yīng)用的憶阻器存儲(chǔ)器技術(shù)[D]. 胡舒凱.國防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2011
[3]納米結(jié)構(gòu)憶阻器制造技術(shù)研究[D]. 王天琦.黑龍江大學(xué) 2010
[4]納米晶CoNiFe軟磁薄膜的電化學(xué)制備及其結(jié)構(gòu)、性能的研究[D]. 王秋萍.浙江大學(xué) 2010
[5]納米二氧化鈦在環(huán)境衛(wèi)生領(lǐng)域的應(yīng)用基礎(chǔ)研究[D]. 李協(xié)吉.四川大學(xué) 2005
本文編號(hào):3401763
【文章來源】:黑龍江大學(xué)黑龍江省
【文章頁數(shù)】:126 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
電荷、電流、電壓、磁通量之間關(guān)系圖
圖 1-2 惠普實(shí)驗(yàn)室憶阻器實(shí)物圖Fig.1-2 Figure of HP memristor爾公司的創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出著名的管數(shù)目約每隔 18 個(gè)月便會(huì)增加一倍,性定律的預(yù)言一樣,微電子產(chǎn)業(yè)通過縮小晶性能,實(shí)現(xiàn)了微電子行業(yè)的突飛猛進(jìn),為。通過查閱相關(guān)文獻(xiàn)得知特征尺寸為 0.術(shù)早已成為半導(dǎo)體制造行業(yè)的主流[1][2],而 的特征尺寸已經(jīng)達(dá)到 35 納米。但是伴隨子技術(shù)受極限物理尺寸的限制越來越明過縮小晶體管尺寸已經(jīng)行不通了,微電子管。米電子技術(shù)中,阻變存儲(chǔ)器(RRAM—Re
多成果的研究機(jī)構(gòu)包括惠普實(shí)驗(yàn)室,美國加州大學(xué)與日本東可以使用 SPICE(Simulation program with intergrated circuit e,應(yīng)用惠普等給出的參數(shù)指標(biāo)進(jìn)行仿真和模擬研究。 年惠普實(shí)驗(yàn)室宣布成功研制了第一個(gè)納米級(jí)的憶阻器實(shí)物元以分為三個(gè)方面:阻器理論的研究。阻器物理制備和其交叉陣列的實(shí)現(xiàn)。阻器實(shí)現(xiàn)電子突觸的研究。器理論的研究在第 2 章詳細(xì)介紹。下面先介紹國際上憶阻器 年 8 月,美國加州大學(xué)的 Yu. V. Pershin、M. Di Ventra 等人提型——電子自旋阻塞模型[15][16],其結(jié)構(gòu)如圖 1-3 所示。這種半導(dǎo)體與鐵磁材料接觸處出現(xiàn)的電子遷移受限的現(xiàn)象設(shè)計(jì)而成FM接觸面 SC
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]憶阻器交叉陣列及在圖像處理中的應(yīng)用[J]. 胡小方,段書凱,王麗丹,廖曉峰. 中國科學(xué):信息科學(xué). 2011(04)
[2]納米材料國內(nèi)外研究進(jìn)展Ⅰ——納米材料的結(jié)構(gòu)、特異效應(yīng)與性能[J]. 朱世東,周根樹,蔡銳,韓燕,田偉. 熱處理技術(shù)與裝備. 2010(03)
[3]第四種無源電子元件憶阻器的研究及應(yīng)用進(jìn)展[J]. 蔡坤鵬,王睿,周濟(jì). 電子元件與材料. 2010(04)
[4]納米材料及其應(yīng)用研究進(jìn)展[J]. 馮異,趙軍武,齊曉霞,高芬. 工具技術(shù). 2006(10)
[5]化學(xué)沉積法制備Ni-P納米線與納米管有序陣列[J]. 任鑫,黃新民,張胡海. 物理化學(xué)學(xué)報(bào). 2006(01)
[6]大規(guī)模制備Ni80Fe20納米線陣列及其磁學(xué)特性研究[J]. 符秀麗,王懿,李培剛,陳雷明,張海英,涂清云,L.H.Li,唐為華. 物理學(xué)報(bào). 2005(04)
[7]金屬納米微粒的尺寸效應(yīng)[J]. 齊衛(wèi)宏,汪明樸,徐根應(yīng). 材料導(dǎo)報(bào). 2003(10)
[8]TiO2薄膜的制備方法及應(yīng)用[J]. 吳志猛,張偉強(qiáng),董闖. 真空. 2003(02)
[9]納米物理學(xué)的若干基本問題[J]. 邵明珠,羅詩裕. 漳州師范學(xué)院學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2002(03)
[10]Co納米孔洞模板的制備和磁性[J]. 于冬亮,楊紹光,都有為. 物理學(xué)報(bào). 2002(08)
碩士論文
[1]雙擴(kuò)展憶阻器納米結(jié)構(gòu)模型與特性研究[D]. 馮昌浩.黑龍江大學(xué) 2012
[2]面向數(shù)據(jù)庫應(yīng)用的憶阻器存儲(chǔ)器技術(shù)[D]. 胡舒凱.國防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2011
[3]納米結(jié)構(gòu)憶阻器制造技術(shù)研究[D]. 王天琦.黑龍江大學(xué) 2010
[4]納米晶CoNiFe軟磁薄膜的電化學(xué)制備及其結(jié)構(gòu)、性能的研究[D]. 王秋萍.浙江大學(xué) 2010
[5]納米二氧化鈦在環(huán)境衛(wèi)生領(lǐng)域的應(yīng)用基礎(chǔ)研究[D]. 李協(xié)吉.四川大學(xué) 2005
本文編號(hào):3401763
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