【摘要】：臨界電流密度(Jc)是超導薄膜、塊材、帶材等材料的基本性能參數(shù),決定了超導器件及設備的性能和穩(wěn)定性,簡易、準確的無損Jc測量方法對超導材料特性研究及超導器件的性能保障具有重要意義。本文介紹一種基于三次諧波測量的高溫超導薄膜局部臨界電流密度測量方法和測量裝置。研究顯示,在一定幅值的初級線圈交流磁場激勵下,Ⅱ型超導體會產(chǎn)生非線性響應,通過分析次級線圈中三次諧波分量的幅值變化,可以推算超導體的局部臨界電流密度。我們搭建了一套基于此原理、適用于液氮條件的測量裝置。通過對比實驗,對測量的準確性進行了驗證,尤其針對微弱的微納伏量級被測信號,采取了必要的噪聲抑制措施,并通過對測量數(shù)據(jù)的校正,提高了測量的準確度。實驗研究顯示,基于三次諧波測量的方法對于超導薄膜的臨界電流密度的測量準確度較高,進行誤差修正后,測量裝置的誤差小于10%。超導薄膜感應法測量裝置的搭建十分方便,而且應用靈活,對于大面積超導薄膜的臨界電流密度分布測量具有十分顯著的優(yōu)勢。
[Abstract]:Critical current density (Jc) is the basic performance parameter of superconducting film, bulk and strip, which determines the performance and stability of superconducting devices and devices. Accurate nondestructive Jc measurement method is of great significance to the study of superconducting material characteristics and the performance guarantee of superconducting devices. This paper introduces a local critical current density measurement method and a measuring device for HTS thin films based on the third harmonic measurement. The results show that the type 鈪，

本文編號：2253359