聚偏氟乙烯基復(fù)合薄膜的制備與介電性能研究
發(fā)布時間:2024-03-15 02:40
近些年來,隨著電子產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,開發(fā)新一代具有高儲能低損耗的柔性電介質(zhì)材料顯得尤為迫切,聚偏氟乙烯(PVDF)及其共聚物憑其高介電常數(shù)引發(fā)了極大的關(guān)注,成為最有潛力的電介質(zhì)儲能材料。本文以VDF與六氟丙烯(HFP)的共聚物P(VDF-HFP)為基體材料,同時引入核殼結(jié)構(gòu)M220(殼為聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),核為丙烯酸酯類),采用溶液法制備了不同比例的P(VDF-HFP)/M220復(fù)合薄膜,并研究M220對P(VDF-HFP)結(jié)晶行為和儲能性能的影響。此外,分別采用熔融混合法和溶液流延法,引入了導(dǎo)電填料碳納米管(MWCNTs),制備了不同比例的P(VDF-HFP)/MWCNTs兩相復(fù)合薄膜和P(VDF-HFP)/PMMA/MWCNTs三相復(fù)合薄膜(PMMA含量為10%),并通過對薄膜晶相結(jié)構(gòu)、介電性能和機械性能的對比研究來探討MWCNTs對復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)與性能的影響。M220含量低時可作為異相成核劑,促進P(VDF-HFP)的結(jié)晶,但是含量高時核殼結(jié)構(gòu)部分破裂會阻礙結(jié)晶。復(fù)合材料的介電常數(shù)和介電損耗隨著M220的加入有所降低,但復(fù)合薄膜的擊穿強度顯著提高,當(dāng)M220含量為5%時,...
【文章頁數(shù)】:72 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
本文編號:3928428
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【部分圖文】:
圖1-1材料的極化類型與頻率的關(guān)系
但是每一種極化都有其固定的頻率,極化類型與頻率的關(guān)系如圖1-1所示。(1)位移極化電子的位移極化指電子云在外電場下發(fā)生相對于分子骨架的移動,使正負電荷中心發(fā)生位置偏移造成的;原子的位移極化是指分子骨架在外電場下發(fā)生變形,由于各原子的電負性不同,在外電場下發(fā)生的位置移動也會不同....
圖2-1介電性能測試電極簡圖
測試前在薄膜兩面分別涂范圍設(shè)置為20Hz-5MHz,測試電壓為原理可用公式(2-1)表示:=×(2)2×0介電常數(shù);););直徑(m);數(shù),值為8×10-12(F/m)。損耗測試中所用的電極如圖2-1所示。
圖2-2GB/T1040.3-2006的試樣尺寸要求
第2章實驗材料及分析方法合薄膜以15mm/min的拉伸速率進行拉伸試驗,得到復(fù)合薄膜的拉率。
圖3-1P(VDF-HFP)/M220復(fù)合薄膜制備流程
燕山大學(xué)工學(xué)碩士學(xué)位論文第3章P(VDF-HFP)/M220復(fù)合薄膜的制備與性能研究3.1P(VDF-HFP)/M220復(fù)合薄膜的制備本章主要采用溶液流延法的工藝制備了M220含量分別為0%、3%、5%和8%的P(VDF-HFP)/M220復(fù)合薄膜。制備過程....
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