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電沉積法制備金屬基納米復合鍍層的摩擦學性能研究

發(fā)布時間:2022-02-15 11:26
  本實驗以電沉積技術作為主要的技術手段,在鋼片表面制備了Ni-SiC納米復合鍍層、在鋁片表面制備了Ni-P-PTFE納米復合鍍層、Ni-P-CNTs納米復合鍍層和Ni-P-MoS2納米復合鍍層,并且對它們的結構、表面形貌以及摩擦學性能進行了深入的研究,得到如下結論:(1)利用磁性輔助脈沖電沉積技術制備Ni-SiC納米復合鍍層,實驗結果表明納米復合鍍層具有良好的摩擦學性能和力學性能。(2)利用電沉積法制備摻雜聚四氟乙烯(PTFE)、碳納米管(CNTs)以及二硫化鉬(MoS2)固體潤滑顆粒的鋁基Ni-P復合鍍層,在實驗過程中對固體潤滑顆粒質量濃度、電流密度、溶液pH和鍍液溫度進行調控,得到最佳制備條件。利用SEM、EDS、AFM、XRD等表征手段對制備得到的納米復合鍍層的結構、成分和表面形貌進行測試,實驗結果表明固體潤滑顆粒的加入明顯的改變了Ni-P復合鍍層表面形貌,使得Ni-P-PTFE、Ni-P-CNTs、Ni-P-MoS2納米復合鍍層均表現(xiàn)出良好的摩擦學性能。其中Ni-P-CNTs、Ni-P-MoS2

【文章來源】:西北民族大學甘肅省

【文章頁數】:68 頁

【學位級別】:碩士

【部分圖文】:

電沉積法制備金屬基納米復合鍍層的摩擦學性能研究


石墨與MoS2晶體結構

電沉積,制備條件,化學成分


圖 2.1 電沉積制備過程圖示Fig.2.1 Schematic diagram of electrodeposition process表 2.1 化學成分及制備條件Tab 2.1 Chemical composition and preparation conditions

納米,Ni鍍層,SEM形貌,鎳晶粒


圖 2.2 Ni 鍍層和 Ni-SiC 納米鍍層的 SEM 形貌(a)Ni 鍍層(b)0.2 T-Ni-SiC 納米鍍層(c)0.4 T-Ni-SiC 納米鍍層 (d)0.6 T-Ni-SiC 納米鍍層Fig 2.2 SEM morphology of Ni coating and Ni-SiC nano-coating (a) Ni coating (b)0.2 T-Ni-SiCnano-coating (c) 0.4 T-Ni-SiC nano-coating (d) 0.6 T-Ni-SiC nano-coating圖2.2顯示了通過MAPED方法獲得的純Ni鍍層和Ni-SiC納米鍍層的SEM形貌?梢钥闯觯 Ni 鍍層(圖 2.2a)晶粒尺寸明顯比 Ni-SiC 納米鍍層的晶粒尺寸大。圖b~d 清楚地表明 SiC 納米顆粒成功地嵌入 Ni-SiC 納米鍍層中。隨著磁場強度從 0.2 T上升到 0.6 T,鎳晶粒尺寸逐漸減小。在 0.2 T 的磁場強度下沉積的 NS-1 鍍層中出現(xiàn)相對增大的微觀結構(圖 2.2b),而在 0.4 T 時獲得的 NS-2 鍍層結構較 0.2 T 下較。▓D 2.2c)。此外,在 0.6 T 下生產的 NS-3 鍍層具有分布均勻和致密細鎳晶粒和 SiC納米顆粒(圖 2.2d)。

【參考文獻】:
期刊論文
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碩士論文
[1]填充改性聚四氟乙烯的摩擦磨損性能研究[D]. 李翠.揚州大學 2016
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本文編號:3626546

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