光刻設(shè)備是集成電路（IC）制造的核心設(shè)備,是高科技強國的戰(zhàn)略性產(chǎn)品,也是當(dāng)前國際科技競爭的主要戰(zhàn)場和博弈焦點。目前,全球的高端光刻機市場已被荷蘭ASML公司壟斷,且其具備嚴(yán)密的全球知識產(chǎn)權(quán)布局。而光刻設(shè)備的國產(chǎn)替代作為市場后入者,知識產(chǎn)權(quán)建設(shè)起步晚,并不占據(jù)優(yōu)勢地位。通過對光刻領(lǐng)域兩大國際巨頭ASML和Nikon在各自產(chǎn)品發(fā)展過程中不同階段發(fā)生的專利訴訟案例的全面分析,探究在集成電路（或半導(dǎo)體）這樣的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,知識產(chǎn)權(quán)訴訟中國際行業(yè)巨頭常用的策略和技巧,進(jìn)而得到對國產(chǎn)光刻裝備知識產(chǎn)權(quán)建設(shè)的重要啟示。 

【文章頁數(shù)】：8 頁

【文章目錄】：
1 案例概況
    1.1 公司背景介紹
    1.2 專利布局情況
    1.3 訴訟過程概述
        1.3.1 第一階段:2001年-2004年
        1.3.2 第二階段:2016年-2019年
2 專利策略分析
    2.1 荷蘭ASML公司
        2.1.1 收購專利
        2.1.2 收購供應(yīng)商
        2.1.3 發(fā)起“337調(diào)查”
        2.1.4 提起反訴
    2.2 日本Nikon公司
        2.2.1 主動攻擊
        2.2.2 無效訴訟
3 訴訟結(jié)果
    3.1 昂貴的訴訟成本(法律風(fēng)險)
    3.2 原告方風(fēng)險(法律風(fēng)險、市場風(fēng)險、技術(shù)風(fēng)險)
    3.3 被告方風(fēng)險(法律風(fēng)險、市場風(fēng)險)
4 對國產(chǎn)光刻設(shè)備知識產(chǎn)權(quán)建設(shè)的啟發(fā)
    4.1 國產(chǎn)光刻設(shè)備知識產(chǎn)權(quán)現(xiàn)狀
    4.2 跨國企業(yè)專利訴訟啟示
        4.2.1 專利方案
        4.2.2 專利布局
        4.2.3 積極行使訴訟權(quán)利


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]第二屆中國國際進(jìn)口博覽會盛大開幕[J]. 周新月.  商業(yè)文化. 2019(31)
[2]中國制版光刻與微/納米加工技術(shù)的發(fā)展歷程回顧與現(xiàn)狀[J]. 陳寶欽.  微細(xì)加工技術(shù). 2006(01)
[3]光學(xué)光刻現(xiàn)狀及設(shè)備市場[J]. 童志義.  電子工業(yè)專用設(shè)備. 2002(01)



本文編號：3654811