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外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件比較研究

發(fā)布時(shí)間:2021-07-10 03:06
  加強(qiáng)專利保護(hù),對(duì)優(yōu)化創(chuàng)新環(huán)境、鼓勵(lì)創(chuàng)造和創(chuàng)新、引導(dǎo)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整與升級(jí)具有舉足輕重的作用。在專利法中,外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件,是其基本問題與重要問題。本文對(duì)其相關(guān)問題進(jìn)行研究,以促進(jìn)我國專利法的完善。本文共分為四部分,第一部分根據(jù)我國專利法,對(duì)外觀設(shè)計(jì)與發(fā)明專利授權(quán)條件的內(nèi)涵進(jìn)行探討和分析。第二部分對(duì)美國和日本專利法有關(guān)外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件的規(guī)則進(jìn)行探討。第三部分對(duì)外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件比較分析,通過比較找出二者的共性與差異,并指出了我國外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件規(guī)則存在的不足。第四部分對(duì)外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件的司法適用進(jìn)行探討,結(jié)合司法實(shí)踐的部分案例,分析外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件的內(nèi)涵及其異同。第五部分我國外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件規(guī)則的完善,提出刪除“不與他人在先權(quán)利沖突”條款,并按照發(fā)明專利的“三性”要件框架描述外觀設(shè)計(jì)專利的授權(quán)條件。 

【文章來源】:中南民族大學(xué)湖北省

【文章頁數(shù)】:45 頁

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【文章目錄】:
摘要
Abstract
引言
    (一) 研究的背景及意義
    (二) 國內(nèi)研究現(xiàn)狀
    (三) 研究的思路與方法
    (四) 本文的創(chuàng)新之處與不足
一、我國專利法對(duì)外觀設(shè)計(jì)與發(fā)明專利授權(quán)條件內(nèi)涵界定
    (一) 外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件內(nèi)涵分析
        1.外觀設(shè)計(jì)的內(nèi)涵
        2.外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件分析
    (二) 發(fā)明專利授權(quán)條件內(nèi)涵分析
        1.新穎性
        2.創(chuàng)造性
        3.實(shí)用性
二、美日專利法對(duì)外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件的處置
    (一) 美國法上專利授權(quán)條件分析
    (二) 日本法上專利授權(quán)條件分析
三、外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件比較分析
    (一) 外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件之共性
        1.理論基礎(chǔ)相同
        2.授權(quán)立足點(diǎn)相同
        3.授權(quán)條件結(jié)構(gòu)基本相同
    (二) 外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件之差異
    (三) 我國外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件規(guī)則存在的不足
        1.外觀設(shè)計(jì)專利申請(qǐng)不得與在先權(quán)利相沖突是多余的
        2.外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件的概括性不強(qiáng)
四、外觀設(shè)計(jì)專利與發(fā)明專利授權(quán)條件的司法適用探討
    (一) 外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件的司法適用
    (二) 發(fā)明專利授權(quán)條件的司法適用
五、我國外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件規(guī)則的完善
    (一) 刪除“不得與在先權(quán)利相沖突”條款
    (二) 按照發(fā)明專利的“三性”要件描述外觀設(shè)計(jì)專利的授權(quán)條件
參考文獻(xiàn)


【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]我國專利創(chuàng)造性判定中的整體性評(píng)審與模型構(gòu)造研究[J]. 黃國群.  上海財(cái)經(jīng)大學(xué)學(xué)報(bào). 2015(03)
[2]專利“創(chuàng)造性”判斷中的“事后諸葛亮”——兼評(píng)我國《專利法》第22條及《審查指南》中相關(guān)規(guī)定[J]. 牛強(qiáng).  知識(shí)產(chǎn)權(quán). 2009(04)
[3]中美專利新穎性差異及對(duì)企業(yè)專利管理的啟示[J]. 查芷琦.  電子知識(shí)產(chǎn)權(quán). 2009(06)
[4]申請(qǐng)歐洲專利程序簡(jiǎn)化——《歐洲專利公約2000》的若干修訂及其影響[J]. 任曉玲.  中國發(fā)明與專利. 2008(12)
[5]“絕對(duì)新穎性”的不同看法論[J]. 馬秀山.  發(fā)明與創(chuàng)新(綜合版). 2008(08)
[6]專利申請(qǐng)新穎性寬限期規(guī)則的援引現(xiàn)狀及利用策略[J]. 萬小麗,喬永忠.  電子知識(shí)產(chǎn)權(quán). 2008(05)
[7]從外觀設(shè)計(jì)專利的授予和保護(hù)談專利法的相關(guān)修改[J]. 唐俐.  重慶工學(xué)院學(xué)報(bào). 2006(06)
[8]論抵觸申請(qǐng)[J]. 王澄.  中國專利與商標(biāo). 2005(04)
[9]專利實(shí)用性要件的國際協(xié)調(diào)研究[J]. 張勇,朱雪忠.  政法論叢. 2005(04)
[10]“勞動(dòng)值得”理論:知識(shí)產(chǎn)權(quán)的一種認(rèn)知模式[J]. 馮曉青.  北京市政法管理干部學(xué)院學(xué)報(bào). 2003(04)

碩士論文
[1]專利創(chuàng)造性標(biāo)準(zhǔn)研究[D]. 李夢(mèng)楠.中國政法大學(xué) 2010
[2]專利的實(shí)用性標(biāo)準(zhǔn)比較研究[D]. 趙琳.華東政法大學(xué) 2009
[3]美國發(fā)明專利非顯而易見性判斷標(biāo)準(zhǔn)改革及其啟示[D]. 李金芳.華東政法大學(xué) 2008
[4]專利創(chuàng)造性判斷的客觀化之比較研究[D]. 方慧聰.中國政法大學(xué) 2007



本文編號(hào):3275058

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