本文關(guān)鍵詞：雙模式對(duì)人工耳蝸低頻段電極不全植入者的言語(yǔ)識(shí)別影響

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【摘要】：目的:探討一側(cè)人工耳蝸聯(lián)合對(duì)側(cè)助聽(tīng)器的雙模式應(yīng)用方式對(duì)低頻段電極不全植入者的言語(yǔ)識(shí)別影響。方法:15例非植入耳具有低頻殘余聽(tīng)力(250Hz 45~90dBHL,500Hz 75~100dBHL)的語(yǔ)后聾患者,通過(guò)人工耳蝸調(diào)試軟件關(guān)閉蝸?lái)敳壳?個(gè)工作電極,模擬低頻段電極不全植入的狀態(tài)。1低頻段電極不全植入狀態(tài)下同一受試者先后使用單側(cè)人工耳蝸(單CI)和雙模式進(jìn)行言語(yǔ)測(cè)試(單音節(jié)、雙音節(jié)、短句),對(duì)2種模式下的言語(yǔ)得分結(jié)果進(jìn)行比較。2開(kāi)啟全部電極(全植入狀態(tài)),同一受試者再次先后使用單CI及雙模式進(jìn)行言語(yǔ)測(cè)試,并對(duì)低頻段電極不全植入狀態(tài)下2種模式的言語(yǔ)測(cè)試得分差值與全植入狀態(tài)下2種模式得分的差值進(jìn)行比較。結(jié)果:低頻段電極不全植入狀態(tài)下受試者使用雙模式后,其言語(yǔ)識(shí)別得分高于單CI的言語(yǔ)識(shí)別得分(P0.05)。低頻段電極不全植入狀態(tài)下雙模式與單CI的言語(yǔ)識(shí)別得分差值大于全植入狀態(tài)下兩者的差值(P0.05)。結(jié)論:低頻段電極不全植入者應(yīng)用雙模式刺激后可獲得更好的言語(yǔ)識(shí)別效果。
【作者單位】： 南方醫(yī)科大學(xué);廣東省人民醫(yī)院廣東省醫(yī)學(xué)科學(xué)院耳鼻咽喉頭頸外科;
【關(guān)鍵詞】： 耳蝸植入術(shù) 助聽(tīng)器 言語(yǔ)識(shí)別
【基金】：廣東省科技計(jì)劃項(xiàng)目(No:2012B031800408) 衛(wèi)生行業(yè)科研專項(xiàng)項(xiàng)目(No:201202005)
【分類號(hào)】：R764.9
【正文快照】： 經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),如果非植入耳有殘余聽(tīng)力,則一側(cè)人工耳蝸聯(lián)合對(duì)側(cè)助聽(tīng)器的雙模式(binaural bi-modal fitting)應(yīng)用方式可改善使用者的言語(yǔ)識(shí)別能力〔1-2〕,且目前非植入耳的聽(tīng)力水平與應(yīng)用雙模式改善效果的程度之間的關(guān)系研究,表明兩者之間并無(wú)明顯相關(guān),只要有殘余聽(tīng)力就可發(fā)揮雙

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【共引文獻(xiàn)】

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【相似文獻(xiàn)】

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5 孫s，

本文編號(hào)：951193