【摘要】：目的本實(shí)驗(yàn)通過(guò)模擬臨床調(diào)鄈、拋光操作流程,從表面粗糙度、形貌特征、XRD晶相分析和維氏硬度四個(gè)方面研究不同的拋光工具對(duì)氧化鋯拋光后表面形貌和機(jī)械性能的影響,從而為臨床氧化鋯修復(fù)體的拋光提供指導(dǎo)性建議。方法將威蘭德氧化鋯坯塊切割成體積為13mm×10mm×3mm大小的標(biāo)準(zhǔn)試件,分別依次用150~#、400~#、600~#、800~#、1200~#砂紙打磨試件,然后將氧化鋯坯塊進(jìn)行燒結(jié),挑選32個(gè)試件隨機(jī)分成4組(A組、B組、C組、D組),每組8個(gè)試件。A組為空白對(duì)照組,不做任何處理;B組為陰性對(duì)照組,用松風(fēng)綠色和白色砂石依次打磨及粗拋光;C組為固美組,D組為EVE組;C組、D組分別在B組的基礎(chǔ)上用不同拋光套裝依次進(jìn)行拋光。測(cè)試各組試件拋光處理后的表面粗糙度Ra值并進(jìn)行單因素方差分析,并使用掃描電鏡觀察每組試件處理后的表面形貌和XRD分析氧化鋯拋光前后晶相結(jié)構(gòu)的差異,測(cè)量每組試件的維氏硬度值并進(jìn)行單因素方差分析。結(jié)果粗糙度:氧化鋯試件經(jīng)表面處理后各組Ra值之間不完全相同,差別具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(F=273.2,P=0.000),LSD-t檢驗(yàn)結(jié)果表明:各組Ra值從低到高依次為:D組A組、B組、C組,差異具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義,其中A組、B組、C組之間無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)差異。且將每組的前一級(jí)拋光與后一級(jí)拋光后的Ra值進(jìn)行兩獨(dú)立樣本的配對(duì)t檢驗(yàn)表明:B組、C組、D組三組前后兩級(jí)拋光后的Ra值具有統(tǒng)計(jì)學(xué)差異。SEM結(jié)果與表面粗糙度測(cè)試結(jié)果具有較好的一致性。XRD分析拋光前后氧化鋯表面存在m-t晶相的轉(zhuǎn)化。維氏硬度:四組氧化鋯在表面處理后維氏硬度值之間差別無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(F=2.603,P=0.0530.05)。結(jié)論不同氧化鋯拋光工具對(duì)威蘭德氧化鋯拋光效果具有顯著性差異,具有三級(jí)拋光磨頭的EVE氧化鋯拋光套裝拋光效果最好,拋光后氧化鋯表面富有光澤。固美氧化鋯拋光套裝的拋光效果與空白對(duì)照組和陰性對(duì)照組效果相當(dāng),能滿足臨床要求。XRD檢測(cè)氧化鋯表面拋光后發(fā)生了m-t的晶相轉(zhuǎn)變,拋光后表面不存在m相。拋光處理后氧化鋯表面硬度未發(fā)生變化。
【圖文】：

注： 2種拋光工具均根據(jù)商家生產(chǎn)的從粗到細(xì)逐級(jí)拋光，均不噴水，采用3個(gè)方向重疊拋光，，轉(zhuǎn)速在商家控制范圍內(nèi)取最大相同值。圖1.2.1 打磨拋光方向和測(cè)量區(qū)域1.2.3 粗糙度測(cè)定對(duì)所有樣本進(jìn)行粗糙度測(cè)試，用電動(dòng)觸針式二維粗糙度測(cè)量?jī)x測(cè)量各試件表面粗糙度，參照GB/T1031-2009[43]標(biāo)準(zhǔn)，在各氧化鋯試件拋光的中心區(qū)域進(jìn)行粗糙度測(cè)試，取樣長(zhǎng)度為（lr）0.8mm，評(píng)定長(zhǎng)度為4mm，測(cè)試方向選擇垂直于

112.3 XRD測(cè)量結(jié)果采用Jade6.5對(duì)XRD衍射圖譜進(jìn)行分析，分析結(jié)果如下圖2.3.1-2.3.5，XRD分析結(jié)果表明：只有在A組中在衍射角為28.17℃的位置存在m相，B組、C組、D組三組中均沒(méi)有m相，只存在固溶體的t相，所以氧化鋯試件在經(jīng)過(guò)打磨拋光后表面發(fā)生了m-t相的轉(zhuǎn)化。采用全譜擬合法計(jì)算得A組中m相的含量為6.2%。
【學(xué)位授予單位】：鄭州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2018
【分類號(hào)】：R783.1

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：2653095