【摘要】：目的:研究不同支抗下無托槽隱形矯治器遠(yuǎn)移上頜磨牙時(shí),前牙區(qū)的受力情況,為臨床隱形矯治器推上頜磨牙遠(yuǎn)移時(shí)支抗選擇和設(shè)計(jì)提供參考。方法:選取個(gè)別正常合女性志愿者一名,上頜智齒已拔除,上頜結(jié)節(jié)區(qū)骨組織完整。對(duì)其頜面部進(jìn)行CBCT掃描,通過Mimics、Geomagic Studio12.0及Pro/E5.0等軟件建立上頜骨、上頜牙列、牙周膜及無托槽隱形矯治器的三維模型,應(yīng)用Hyperrmesh12.0進(jìn)行有限元網(wǎng)格劃分,ANSYS WORKBENCH為有限元分析工具,建立高質(zhì)量的有限元模型。模擬無托槽隱形矯治器在不同支抗條件下推上頜磨牙遠(yuǎn)移,移動(dòng)步距均為0.2mm,組一以頜內(nèi)1-6為支抗,推上頜單顆磨牙7遠(yuǎn)移;組二以頜內(nèi)1-5為支抗,推上頜6、7一起遠(yuǎn)移;組三以頜內(nèi)1-5為支抗,同時(shí)配合頜間II類牽引,推上頜6、7一起遠(yuǎn)移;組四以頜內(nèi)1-5為支抗,同時(shí)借助頜內(nèi)同側(cè)5、6之間種植體支抗,推6、7一起遠(yuǎn)移。觀察不同支抗下前牙區(qū)的牙周膜應(yīng)力分布及位移趨勢(shì)。結(jié)果:從牙周膜等效應(yīng)力分布可見,組一、組二上頜中切牙牙周膜的Von-Mises應(yīng)力主要集中于唇側(cè)頸緣,側(cè)切牙集中于近中面頸緣,尖牙集中于唇側(cè)頸緣和近中面頸緣,組二的應(yīng)力集中面積約為組一的兩倍。組三、組四上頜中切牙牙周膜的Von-Mises應(yīng)力主要集中于唇側(cè)頸緣和舌側(cè)頸緣,側(cè)切牙集中于近中面頸緣和舌側(cè)頸緣,尖牙集中于唇側(cè)頸緣、舌側(cè)頸緣及近中面頸緣,且組三、組四唇側(cè)牙周膜受力面積明顯小于組二。四個(gè)組的前牙唇側(cè)牙周膜應(yīng)力集中情況為組二組三組四組一。從上頜前牙位移趨勢(shì)圖可見,組一前牙區(qū)的唇向位移量最小,支抗丟失最少;組二前牙區(qū)唇側(cè)位移量最大,約為組一的兩倍;組三、組四上頜前牙的唇向位移量明顯小于組二。四組上頜前牙的唇向位移組二組三組四組一。結(jié)論:無托槽隱形矯治器推磨牙遠(yuǎn)移的過程中,四種支抗方式均伴有不同程度的前牙唇傾,支抗消耗。牙齒的移動(dòng)趨勢(shì)表現(xiàn)為唇舌向移動(dòng)近遠(yuǎn)中向移動(dòng)垂直向移動(dòng),且中切牙位移量最大,側(cè)切牙移動(dòng)量最小。從磨牙遠(yuǎn)移方式來看:單顆磨牙遠(yuǎn)移,前牙唇向位移量最小,支抗丟失量最少;整體遠(yuǎn)移磨牙配合種植體支抗?fàn)恳?N,前牙唇側(cè)牙周膜應(yīng)力集中面積基本等同單顆磨牙遠(yuǎn)移;采用種植體支抗推磨牙遠(yuǎn)移時(shí),與頜間II類牽引比較,上前牙出現(xiàn)更明顯的壓低效應(yīng)。
【學(xué)位授予單位】：蘭州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2019
【分類號(hào)】：R783.5
【圖文】：

值的方法表達(dá)牙周膜。將牙齒與頜骨相交部分進(jìn)行數(shù)據(jù)選擇，設(shè)計(jì)牙周膜厚均勻的 0.25mm[57]，通過布爾運(yùn)算向外沿法線擴(kuò)展 0.25mm，建立牙周膜數(shù)圖 2-7)。接下來進(jìn)行隱形矯治器建模，單獨(dú)移動(dòng)右側(cè)上頜第二磨牙向遠(yuǎn)中mm，選擇移動(dòng)后的牙列的牙冠部分，向外沿法線擴(kuò)展 0.75mm[48、52]，即為隱治器膜片的厚度，去除牙齒相重疊部分，同時(shí)沿牙頸緣的弧度剪去齦方多余分，得到遠(yuǎn)中移動(dòng)磨牙后的矯治器數(shù)據(jù)，對(duì)此數(shù)據(jù)進(jìn)行建模，存儲(chǔ)為 IGES（圖 2-8）。將建立了包括上頜牙槽骨、上頜牙齒、牙周膜、無托槽隱形矯治器的三維數(shù)合，存儲(chǔ)為 IGES 格式導(dǎo)入 Pro/E 軟件，進(jìn)行組裝，建立完整的上頜牙列的有限元模型（圖 2-9）。 實(shí)驗(yàn)圖片.1 影像數(shù)據(jù)處理

三角片存在孔洞，修補(bǔ)模型

依據(jù)曲率提取輪廓線，構(gòu)造曲面片，構(gòu)造柵格，曲面擬合

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本文編號(hào)：2787170