發(fā)布時間：2018-03-30 11:57

  本文選題：氧化鋯基臺　切入點：齒科種植體　出處：《稀有金屬材料與工程》2015年S1期

【摘要】：對4.1 mm的straumann的齒科種植體和氧化鋯基臺系統(tǒng)進行研究,通過有限元方法對齒科種植體的受力情況進行模擬。分別采用鈦合金一體基臺,氧化鋯一體基臺和氧化鋯基臺搭配Ti-base的組合基臺模型,通過有限元軟件模擬30o施加300 N載荷的情況。根據(jù)計算結(jié)果,發(fā)現(xiàn)整套種植體系統(tǒng)受力最大的點都出現(xiàn)在種植體和基臺接觸的位置。在用氧化鋯一體基臺時,氧化鋯內(nèi)部的最大應(yīng)力非常接近氧化鋯材料的斷裂強度,而增加了Ti-base后,氧化鋯基臺內(nèi)部的應(yīng)力則能得到極大的降低。
[Abstract]:The orthodontic implant and zirconia base system of 4.1 mm straumann were studied. The stress of dental implant was simulated by finite element method. The model of zirconia integrated base and zirconia base is combined with Ti-base. The 300N load applied by 30o is simulated by finite element software. It is found that the most stressed points of the whole implant system are in the contact position between the implant and the base. When the zirconia substrate is used, the maximum stress inside the zirconia is very close to the fracture strength of the zirconia material, and the Ti-base is increased. The stress inside the zirconia base can be greatly reduced.
【作者單位】： 清華大學(xué)新型陶瓷與精細(xì)工藝國家重點實驗室;
【基金】：國家科技支撐計劃(2012BAI07B07)
【分類號】：R783.6

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1 管崇明,郭莉,吳海珍;BLB齒科種植體的臨床應(yīng)用及其研究[J];口腔頜面外科雜志;1999年03期

2 ;[J];;年期

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本文編號：1685812