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低氧對(duì)大鼠大腦皮層細(xì)胞凋亡及ROS、NO水平的影響

發(fā)布時(shí)間:2019-09-24 01:57
【摘要】:研究目的 通過體外培養(yǎng)大腦皮層細(xì)胞,并進(jìn)行不同低氧濃度處理,觀察低氧對(duì)大腦皮層細(xì)胞凋亡的影響;檢測(cè)在不同低氧濃度處理后大腦皮層細(xì)胞NO水平和活性氧水平,探討低氧對(duì)大腦皮層細(xì)胞凋亡及ROS、NO產(chǎn)生水平的影響機(jī)制。 研究方法 分離新生24小時(shí)內(nèi)的Sprague-Dawley(SD)大鼠大腦皮層并進(jìn)行體外細(xì)胞培養(yǎng),以密度7×105細(xì)胞/ml,接種于4個(gè)24孔板中。實(shí)驗(yàn)設(shè)10%、0.5%兩個(gè)低氧濃度,每個(gè)氧濃度均設(shè)相應(yīng)的常氧對(duì)照(20%氧濃度),并且每個(gè)氧濃度細(xì)胞接種4個(gè)復(fù)孔,具體分組及低氧處理方式如下:細(xì)胞培養(yǎng)24小時(shí)后,低氧組進(jìn)行相應(yīng)濃度低氧處理,時(shí)間為2小時(shí),低氧處理結(jié)束后,用流式細(xì)胞儀進(jìn)行細(xì)胞凋亡及細(xì)胞ROS水平檢測(cè),ELISA法檢測(cè)NO。實(shí)驗(yàn)重復(fù)三次。 研究結(jié)果 1.低氧對(duì)大腦皮層細(xì)胞凋亡的影響:低氧處理組與相應(yīng)的常氧對(duì)照組比較,10%氧濃度處理組細(xì)胞凋亡百分率明顯大于常氧對(duì)照組(p0.05);不同氧濃度之間進(jìn)行比較,差異不具顯著性,但0.5%氧濃度誘導(dǎo)細(xì)胞凋亡率有低于10%氧濃度的趨勢(shì)。 2.低氧對(duì)大腦皮層細(xì)胞產(chǎn)生ROS的影響:低氧處理組與相應(yīng)的常氧對(duì)照組比較,低氧組細(xì)胞產(chǎn)生的活性氧顯著低于常氧對(duì)照組(p0.05);不同氧濃度之間進(jìn)行比較,差異不具顯著性。 3.低氧對(duì)大腦皮層細(xì)胞產(chǎn)生NO的影響:低氧處理組與相應(yīng)對(duì)照組比較,低氧組產(chǎn)生的NO多于常氧對(duì)照組,但差異不具顯著性,存在低氧誘導(dǎo)細(xì)胞產(chǎn)生NO的趨勢(shì);不同低氧濃度對(duì)細(xì)胞NO產(chǎn)生的影響進(jìn)行比較,無明顯差異。 研究結(jié)論 1. 10%低氧濃度可提高大鼠大腦皮層細(xì)胞凋亡的發(fā)生率。 2. 10%、0.5%氧濃度均抑制大鼠大腦皮層細(xì)胞產(chǎn)生ROS。 3. 10%氧濃度有誘導(dǎo)大鼠大腦皮層細(xì)胞產(chǎn)生NO的趨勢(shì)。
【學(xué)位授予單位】:上海體育學(xué)院
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2011
【分類號(hào)】:R363

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào):2540591

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