本文關鍵詞：北方微電子，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

公司簡介

北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司，，作為國內領先的高端半導體裝備制造企業(yè)，我們所開發(fā)的刻蝕設備(ETCH)、化學氣相沉積設備(CVD)、物理氣相沉積設備(PVD)等核心產品已廣泛應用于集成電路(Semiconductor)、半導體照明(LED)、微機電系統(tǒng) (MEMS)、功率半導體(Power IC)、先進封裝(Advanced Packaging)、光通信(Optical Communication)及化合物半導體(Compound Semi)等尖端領域。北方微電子經(jīng)過十余年的發(fā)展，形成了刻蝕工藝、薄膜工藝、等離子技術、精密機械、自動化及軟件、超高真空等核心技術優(yōu)勢，為微電子產業(yè)的快速發(fā)展提供了值得信賴的產品和服務。秉承科技創(chuàng)新，用戶至上的理念，北方微電子正致力于成為一家具有國際影響力的高端裝備及工藝解決方案提供商。

企業(yè)文化

我們的使命

生活更美好，環(huán)境更自然。

我們的價值觀

以客戶為導向的持續(xù)創(chuàng)新。

我們的愿景

致力于成為一家值得信賴并受人尊重，在微電子裝備領域擁有領先技術，具有國際影響力的高端裝備及工藝解決方案提供商。

我們的宗旨

精良品質，卓越服務，中國制造。

我們的精神

創(chuàng)造精良，打造民族自尊。

成長歷程

2012年

半導體照明領域ITO-sputter設備實現(xiàn)銷售

先進封裝領域Polaris TSV PVD設備實現(xiàn)銷售

光波導領域GSE200系列等離子刻蝕機實現(xiàn)銷售

成立合肥、武漢、新竹客戶服務中心

2011年

半導體照明領域ELEDE® 330 ICP等離子刻蝕機實現(xiàn)批量銷售，大陸地區(qū)市場占有率超過50%

12英寸65nm高密度等離子刻蝕機參加“十一五”國家重大科技成就展

12英寸65/45nm NMC612A高密度等離子刻蝕機通過中芯國際北京工廠生產線工藝驗證

“十二五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專項(02專項)“45-22nm銅互連PVD設備研發(fā)及產業(yè)化”項目通過立項評審

8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機實現(xiàn)對上海華虹NEC公司的二次銷售

微機電系統(tǒng)(MEMS)領域DSE200系列深硅等離子刻蝕機實現(xiàn)銷售

成立東莞、蕪湖、西安客戶服務中心

2010年

半導體照明領域ELEDE® 330 ICP刻蝕機實現(xiàn)銷售

8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機實現(xiàn)對國家先導工藝研發(fā)中心的銷售

國家“十二五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專項(02專項)“32-22nm柵刻蝕機產品研發(fā)及產業(yè)化”項目正式啟動

2009年

“100nm高密度等離子刻蝕機研發(fā)與產業(yè)化項目”榮獲國務院頒發(fā)的國家科技進步二等獎

國家“十一五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專項(02專項)“65/45nmPVD設備研發(fā)”項目正式啟動

2008年

“100nm高密度等離子刻蝕機研發(fā)與產業(yè)化項目”榮獲北京市科學技術一等獎

國家“十一五”《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》重大專項(02專項)“90/65nm刻蝕機研發(fā)與產業(yè)化”項目正式啟動

8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機實現(xiàn)對上海宏力半導體公司的銷售

12英寸90/65nm NMC612高密度等離子刻蝕機進入中芯國際北京工廠

2007年

公司北京亦莊經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)產業(yè)化基地正式奠基

8英寸NMC508A高密度等離子刻蝕機實現(xiàn)對上海華虹NEC公司的銷售

國家“十一五”科技支撐計劃“高密度等離子刻蝕機反應室系統(tǒng)優(yōu)化與工藝制程技術開發(fā)”項目正式啟動

2006年

“100nm高密度等離子刻蝕機”項目通過國家科技部和北京市政府組織的聯(lián)合驗收

8英寸100nm高密度等離子刻蝕機與客戶簽訂批量銷售訂單

成立上海客戶服務中心

2005年

8英寸100nm高密度等離子刻蝕機進入中芯國際天津工廠

通過由BVQi審核的ISO9001、ISO14001和OHSAS18001管理體系認證

成立天津客戶服務中心

成立美國硅谷辦事處

2004年

集成電路制造裝備和工藝試驗平臺建成，潔凈廠房投入使用

第一臺8英寸100nm高密度等離子刻蝕機開發(fā)成功

成立日本東京辦事處

2003年

國家“十五”863計劃集成電路制造裝備重大專項“100nm高密度等離子刻蝕機”項目正式啟動

公司研發(fā)中心選址中關村電子城科技園區(qū)，落成并啟用

2002年

國家“十五”863計劃集成電路制造裝備重大專項——“100nm高密度等離子刻蝕機”項目通過科技部、北京市政府的立項批復

2001年

北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司注冊成立

社會榮譽

2013

吳軍博士入選“國家千人計劃”和 “北京市海聚工程”——中共中央組織部、中共北京市委組織部

董博宇博士入選“北京市海聚工程”——中共北京市委組織部

2012

公司總裁趙晉榮獲得“2011-2012年度中國LED行業(yè)優(yōu)秀企業(yè)家”稱號——中國光學光電子行業(yè)協(xié)會

公司總裁趙晉榮入選“科技北京百名領軍人才培養(yǎng)工程”——中共北京市委組織部、北京市科學技術委員會

公司總裁趙晉榮獲得“北京市有突出貢獻的科學、技術、管理人才”獎勵——中共北京市委組織部

ELEDE® 330 ICP刻蝕機榮獲“中國半導體創(chuàng)新產品和技術項目”獎——中國半導體行業(yè)協(xié)會

“2012中國新興產業(yè)最具投資價值企業(yè)”——高工產業(yè)研究院

“SEMI中國產業(yè)獎”——SEMI 中國

“2011中國LED行業(yè)特別獎”——中國光學光電子行業(yè)協(xié)會

“2012最具潛力LED企業(yè)”——OFWEEK光電新聞網(wǎng)

2012“芯光杯”優(yōu)秀金獎——中國半導體行業(yè)協(xié)會

公司總裁趙晉榮獲得“極光獎”之“最佳LED首腦獎”——LED INSIDE

ELEDE® 330 ICP 等離子刻蝕機獲得“極光獎”之“中國市場-最佳LED設備獎” ——LED INSIDE

2011

2011中關村高成長企業(yè)TOP100——北京中關村高新技術企業(yè)協(xié)會

北京市科技進步二等獎(大產能高亮度LED刻蝕機研發(fā)及產業(yè)化)——北京市

第六屆中國半導體創(chuàng)新產品(LED刻蝕機)——中國半導體行業(yè)協(xié)會

第二屆北京市發(fā)明專利二等獎以及中國專利優(yōu)秀獎——國家知識產權局

公司副董事長耿錦啟獲得北京市“首都勞動獎章”

2010

2010年度優(yōu)秀團隊獎——國家科技重大專項02專項實施管理辦公室

劉韶華博士、王厚工博士入選“國家千人計劃”和“北京市海聚工程”

公司總裁趙晉榮獲得國家科技部頒發(fā)的“十一五國家科技計劃執(zhí)行突出貢獻獎”

2009

國家科學技術進步二等獎(100納米等離子刻蝕機項目)——國務院

全國企事業(yè)知識產權試點單位——國家知識產權局

最受關注本土半導體設備與材料公司——SEMI中國

丁培軍博士入選首批“國家千人計劃” 和“北京市海聚工程”

2008

北京市科技進步一等獎(100納米等離子刻蝕機項目)——北京市

公司副總裁趙晉榮入選北京市百千萬人才工程

北京市制造業(yè)信息化工程“設計制造管理集成應用”示范企業(yè)——北京市科學技術委員會

中國制造業(yè)信息化工程風云榜“十大創(chuàng)新領袖”——《中國制造業(yè)信息化》雜志社

信息北京十大應用創(chuàng)新成果“應用典范”獎——北京信息化協(xié)會

中華工人先鋒號——中華全國總工會

榮獲SEMI組織評選“最受關注本土半導體設備與材料公司”稱號

2007

首批“北京市專利示范單位”——北京市知識產權局

首都勞動獎狀——北京市總工會

2006

第一屆中國半導體創(chuàng)新產品(8英寸等離子刻蝕機)——中國半導體行業(yè)協(xié)會

北京市高技術產業(yè)2006重大經(jīng)濟事件——北京市發(fā)展改革委員會

北京電子信息產業(yè)十大杰出成就——北京市工業(yè)促進局

公司總裁耿錦啟獲得“北京電子信息產業(yè)十大杰出貢獻者”榮譽

公司總裁耿錦啟 “2006年中國半導體制造業(yè)年度人物” ——《半導體國際》

2005

北京市職工優(yōu)秀技術創(chuàng)新成果三等獎(100納米等離子刻蝕機研發(fā)及產業(yè)化項目)——北京市

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