納米尺度的高分辨功能性結(jié)構(gòu)在微電子器件、等離激元光學(xué)、生物傳感等領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。但是如何更加高效地加工出更高精度的功能結(jié)構(gòu)一直都是研究人員所關(guān)注的問題。常規(guī)的加工手段包括三個(gè)步驟:(1)通過高能電子束曝光對抗蝕劑進(jìn)行微納結(jié)構(gòu)制備;(2)在樣品表面沉積功能材料;(3)通過剝離或者刻蝕工藝將抗蝕劑結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到功能性材料上。這種加工方法作為一種成熟穩(wěn)定的制備工藝可以滿足實(shí)驗(yàn)室的大部分應(yīng)用需求。但是該方法在使用過程中同樣也存在一些問題:比如需要用到真空鍍膜設(shè)備、圖形轉(zhuǎn)移過程中容易產(chǎn)生圖形分辨率的缺失和缺陷的引入、高深寬比結(jié)構(gòu)和亞10 nm結(jié)構(gòu)制備困難等等。為了解決傳統(tǒng)功能結(jié)構(gòu)制備工藝中遇到的困難,科研人員提出了利用功能性抗蝕劑直接制備功能結(jié)構(gòu)的方法,即將抗蝕劑經(jīng)過電子束曝光后直接實(shí)現(xiàn)某種功能。功能性電子束抗蝕劑的使用不僅減少了圖形轉(zhuǎn)移這一復(fù)雜的步驟,而且也避免了上文中提到的很多問題�；谶@樣的考慮,本文提出了使用環(huán)烷酸銅和HAuCl₄/PVP復(fù)合溶液作為功能性電子束抗蝕劑進(jìn)行高分辨導(dǎo)電結(jié)構(gòu)和可轉(zhuǎn)移金顆粒陣列的制備。同時(shí),針對一些傳統(tǒng)抗蝕劑,比如說HSQ(Hydrogen...

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【學(xué)位級別】：博士

【部分圖文】：

圖1.7通過毛細(xì)力作用引發(fā)的結(jié)構(gòu)吸附現(xiàn)象得到的分層自組裝結(jié)構(gòu)

本文編號：3940127