石墨烯(Graphene,GR)自從2004年被發(fā)現(xiàn)以來,因其理想的二維晶體結(jié)構(gòu)和獨特的物理性能而成為研究的熱點。目前,石墨烯的制備方法主要有:微機械剝離法、化學(xué)氣相沉積法、外延生長法、氧化石墨烯(Graphene Oxide,GO)溶液還原法。與其它方法相比,氧化石墨烯溶液還原法具有高產(chǎn)量、低成本和可規(guī)�；苽涞忍攸c,有望成為規(guī)�；苽涫┑挠行緩街�。然而在還原過程中常采用的還原劑肼和水合肼具有易爆炸性和強毒性,易對環(huán)境造成危害。因此,需要發(fā)現(xiàn)一種環(huán)境友好、溫和且有效的方法來實現(xiàn)化學(xué)還原氧化石墨烯(Chemically Reduced Graphene Oxide,CRGO)的批量制備。氧化鋅(ZnO)因其無毒、成本低等優(yōu)點被廣泛應(yīng)用于光催化的研究。氧化鋅光催化劑光生電子-空穴對的快速復(fù)合是氧化鋅光催化性能的主要限制因素之一,而石墨烯歸因于其良好的電子傳輸性能和巨大的比表面積,使其成為氧化鋅復(fù)合改性的理想材料。本論文的研究內(nèi)容及結(jié)果如下:(1)通過簡化的Hummers法,改進的Hummers法,加壓氧化法三種不同方法制備出了氧化石墨烯。利用X射線衍射(XRD)、X射線光電子能譜...

【文章頁數(shù)】：54 頁

【學(xué)位級別】：碩士

本文編號：3876741