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聚對氨基苯磺酸-MoS 2 納米片復合膜修飾玻碳電極溶出伏安法測定Pb 2+

發(fā)布時間:2021-09-29 17:44
  通過滴涂及電聚合的方式在玻碳電極(GCE)表面制備了二硫化鉬(MoS2)-聚對氨基苯磺酸(pABSA)復合膜修飾電極,并通過循環(huán)伏安法(CV)和電化學交流阻抗法(EIS)對修飾電極進行了表征。該復合膜對Pb2+具有良好的催化活性,利用方波溶出伏安法(SWSV)對Pb2+在復合膜上的電化學行為進行了研究。在最優(yōu)條件下,Pb2+的溶出峰電流值與其濃度在0.5 nmol/L~2.5μmol/L的范圍內呈良好線性關系,R2=0.9983,檢出限為0.1 nmol/L。同時探究了電解質種類、pH、富集時間、富集電位等因素對Pb(NO32溶出伏安響應信號的影響。對實際樣品進行檢測,加標回收率98.6%~101.2%。 

【文章來源】:分析試驗室. 2020,39(09)北大核心CSCD

【文章頁數】:5 頁

【部分圖文】:

聚對氨基苯磺酸-MoS 2 納米片復合膜修飾玻碳電極溶出伏安法測定Pb 2+


MoS2/GCE(a)和poly-pABSA-MoS2/GCE(b)表面的SEM圖

循環(huán)伏安曲線,循環(huán)伏安曲線,溶液,磺酸


采用循環(huán)伏安法在Mo S2/GCE上進行p ABSA的聚合,并記錄對氨基苯磺酸的電聚合曲線。電位范圍是-1.5~2.0 V,掃描圈數為10圈,掃描速率為100 m V/s(圖2)。由圖2可知,在掃描第1圈時,0.892 V處出現一處明顯的氧化峰(峰1),該峰是p ABSA失去一個電子后產生了氨基苯磺酸自由基,此自由基則可以很快耦合成4,4-二磺酸基氫化偶氮苯二聚體[14,15],然后-0.166 V處出現還原峰(峰2);自掃描第2圈開始,0.124V處出現氧化峰(峰3),峰2和峰3是4,4-二磺酸基氫化偶氮苯二聚體和其氧化產物4,4-二磺酸基偶氮苯的一對氧化還原峰[14,15],且隨著掃描圈數增加峰2和峰3電流也不斷增加,約在10圈時趨于穩(wěn)定。取出電極,用肉眼可以看到電極表面有一層棕褐色的聚對氨基苯磺酸薄膜,與文獻報道結果一致[14,15]。表明對氨基苯磺酸可以在MoS2/GCE上發(fā)生電聚合,生成了聚pABSA(poly-pABSA)。由此可成功制備polypABSA-MoS2/GCE復合修飾電極。2.3 不同修飾電極的電化學表征

伏安圖,伏安圖,電極,溶液


實驗選用5.0 mmol/L的K3[Fe(CN)6]溶液(含支持電解質KCl濃度為0.1 mol/L),對polypABSA-MoS2/GCE,GCE,poly-pABSA/GCE和MoS2/GCE 4種電極進行循環(huán)伏安掃描,圖3記錄了不同修飾電極上的循環(huán)伏安響應曲線。從圖中可看出裸玻碳電極具有一對峰形較好的氧化還原峰(曲線3,Ipa=9.90μA,Ipc=-11.65μA);當GCE表面修飾一層MoS2后,氧化峰和還原峰電流值均明顯下降(曲線4,Ipa=6.87μA,Ipc=-9.27μA),考慮此與MoS2的半導體性能有關,其單獨存在不利于電極表面的電子傳輸。曲線1為在MoS2/GCE電極表面電聚合一層對氨基苯磺酸的循環(huán)伏安曲線,其氧化還原峰電流值均最大(Ipa=14.03μA,Ipc=-15.13μA),表明復合修飾電極有效促進了電極表面的電子轉移,導電性最佳。作為對比,記錄了poly-pABSA/GCE的循環(huán)伏安響應情況(曲線2,Ipa=10.72μA,Ipc=-13.63μA),其氧化還原峰電流值均略高于裸電極,但較復合修飾電極明顯降低,表明聚對氨基苯磺酸膜是導電膜,但其電子傳輸能力并不十分優(yōu)異,裸電極表面覆蓋片層狀的納米MoS2后可增大電極的有效表面積,從而電聚合后導電性能最優(yōu)。因此,poly-p ABSA-MoS2/GCE電化學性能優(yōu)異,可用于樣品的電化學分析。2.4 Pb2+在不同修飾電極上的電化學行為

【參考文獻】:
期刊論文
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本文編號:3414164

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