殼聚糖和硅鋁分子篩的凈水功能調控及其機制研究
【圖文】:
據已有研究報道,高濃度的H2O2處理(大于1邋M邋)或其他自由基反應會破壞殼逡逑聚糖的晶體結構[151“53]。因此,,我們在研究中也選用了邋X射線衍射分析來觀察H2O2逡逑處理前后殼聚糖的晶體結構變化。圖2.4為原始殼聚糖及不同H2O2濃度處理的殼聚逡逑糖X射線衍射圖譜及其相應的結晶度值。由圖所示,經過H2O2處理后的殼聚糖在逡逑20邋=邋19.84°邋and邋26邋=邋10.38°處的衍射峰都變地更加尖銳,并且隨著H2O2處理濃度的逡逑增加此現象更加明顯。通過結晶度計算,我們可以發(fā)現在經過200mMH202處理后逡逑殼聚糖的結晶度由原來的16.57%上井至了邋47.21%。這些結果都表明小濃度的H2O2逡逑處理并沒有導致殼聚糖晶體結構的破壞,反而獲得了結構更有序的殼聚糖樣品。逡逑8(:1^6丨§61:[156]等研究者提出的Peeling-off殼聚糖降解模型可以用來解釋我們研逡逑究中殼聚糖結晶度的變化,同時這個模型也收到了邋&3118等[157]學者的贊同:殼聚糖逡逑25逡逑
2.3.1.3改性前后殼聚糖的掃描.電鏡分析逡逑為了進一步了解殼聚糖改性前后的形貌變化,我們對改性前后的殼聚糖進行了逡逑掃描電鏡分析。圖2.5分別展示了原始殼聚糖和H2O2處理后的殼聚糖表面形貌。由逡逑圖所示,改性前后的亮聚糖粉末都呈現為不規(guī)則的片狀,直徑大約在200邋nm左右,逡逑重要的是,我們發(fā)現殼聚糖在使用H202處理后表面變地光滑且規(guī)整。根據之前討論逡逑的FTIR和XRD結果,可以認為殼聚糖的表面變化是由于H2O2處理后表面無定型逡逑26逡逑
【學位授予單位】:浙江大學
【學位級別】:博士
【學位授予年份】:2012
【分類號】:X703
【參考文獻】
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本文編號:2679357
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