工藝參數(shù)對(duì)靜電粉末沉積法制備藥用薄膜的影響
發(fā)布時(shí)間:2019-11-04 14:21
【摘要】:正靜電粉末沉積(ESPD)法是一種無(wú)溶劑制備藥用薄膜的方法。本試驗(yàn)考察了工藝過(guò)程(沉積過(guò)程、固化和從基體上移除薄膜)中的過(guò)程參數(shù)對(duì)薄膜沉積效率和機(jī)械性能的影響。采用聚氧乙烯(PEO)為模型聚合物,不銹鋼316作基體?疾炝穗妷骸娮斓交w距離和環(huán)境相對(duì)濕度(RH)的變化對(duì)沉積效率(如沉積量)的影響。采用掃描電鏡觀(guān)察薄膜是否形成。此外,考
本文編號(hào):2555677
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