非均質(zhì)的砂礫石層是莫高窟壁畫的主要墻體,但砂礫石層的非均質(zhì)性如何在水鹽運移過程中發(fā)揮作用卻還不清楚。為此,通過在108窟西壁面上1 m×1 m和2 m×2 m范圍的三維高密度電阻率成像監(jiān)測,發(fā)現(xiàn)在這些區(qū)域上,墻體電阻率的空間分布都是非均勻的,低阻值區(qū)域在空間位置、大小和形狀上都會隨時間而變化。這明確說明在構(gòu)成墻體的非均質(zhì)砂礫石層內(nèi)存在著重要的水分飽和與非飽和過程(再分配過程),正是這一不斷重復的飽和與非飽和過程促進了墻體內(nèi)水分的運移和鹽分在一些特定區(qū)域的聚集。研究成果對全面認識莫高窟墻體內(nèi)的水鹽運移機理,減輕和防治壁畫鹽害都具有重要意義。

【文章頁數(shù)】：11 頁

【文章目錄】：
0 引 言
1 測定與數(shù)據(jù)處理方法
2 結(jié)果與討論
    2.1 在1 m×1 m范圍內(nèi)獲得的電阻率空間分布特征
    2.2 在2 m×2 m范圍內(nèi)獲得的電阻率空間分布特征及其動態(tài)變化
    2.3 視電阻率空間分布的時間變化過程
    2.4 洞窟墻體內(nèi)的水鹽運移機理
3 結(jié) 論



本文編號：3788154