應用新會區(qū)國家氣象站、區(qū)域站和DB44/601-2009地方標準中的指標,采用數(shù)理統(tǒng)計、線性回歸和空間區(qū)域分析等方法對新會柑生長的光溫水條件及氣候變化趨勢風險進行研究。結果表明:極端低溫氣候條件滿足生長的適宜性要求,在氣候變化趨勢中不利影響的風險不會增加。年平均氣溫和≥10℃年積溫在2016年后出現(xiàn)偏高不利影響,且變化趨勢的速率分別為0.03、10.71℃/年,顯示偏高影響的風險正在增加。年均相對濕度和日照時數(shù)表現(xiàn)為前期偶有高于上限要求,轉為后期時有低于下限要求;其中年均相對濕度呈下降趨勢,速率為-0.15%/年,顯示偏低不利影響的風險增加。年降水量充沛,偶有偏多。 

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【文章目錄】：
1 資料和方法
    1.1 資料來源
    1.2 新會柑氣候適宜度指標
    1.3 研究方法
2 結果和分析
    2.1 時間序列的氣候適宜性
        1)溫度條件。
        2)日照和水分條件。
        3)氣候變化趨勢與風險。
    2.2 溫度條件的空間區(qū)域特點
3 結論


【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3666261