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CFETR輝光放電清洗的均勻性研究

發(fā)布時(shí)間:2021-07-07 08:57
  為研究壁表面離子流分布均勻性,設(shè)計(jì)高效率中國聚變工程實(shí)驗(yàn)堆輝光放電清洗(GDC)裝置,采用流體模型對(duì)氦氣輝光放電清洗進(jìn)行等效二維模擬。陽極區(qū)域存在較強(qiáng)的局部電離,使得靠近陽極的第一壁受到更強(qiáng)烈的離子轟擊;增加陽極電流該區(qū)域離子流密度顯著增加,而放電清洗的均勻性并無提高;適當(dāng)降低放電氣壓放電不均勻性得到較大改善;內(nèi)壁電流密度略大于外壁電流密度,而電極徑向位置對(duì)內(nèi)外壁電流密度分布影響甚微。分析了陽極電流與電極數(shù)目的合理取值,給出了合適的放電氣壓范圍。 

【文章來源】:真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2020,40(10)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】:6 頁

【文章目錄】:
1 放電模型
2 結(jié)果與討論
    2.1 GDC的等離子體特性
    2.2 電極電流分配
    2.3 放電氣壓
    2.4 陽極徑向位置與壁上離子電流之間的關(guān)系
3 結(jié)論



本文編號(hào):3269342

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