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雜質(zhì)注入下的CFETR輻射偏濾器SOLPS模擬研究

發(fā)布時(shí)間:2020-05-31 04:46
【摘要】:對(duì)于未來(lái)的聚變托卡馬克裝置而言,如何排出芯部等離子體聚變產(chǎn)生的大量能量是一個(gè)至關(guān)重要的問(wèn)題。中國(guó)聚變工程實(shí)驗(yàn)堆(China Fusion Engineering Test Reactor,CFETR)的聚變功率設(shè)計(jì)目標(biāo)將達(dá)到1 GW,向CFETR的邊界等離子體中注入氣體雜質(zhì),使其偏濾器運(yùn)行在輻射偏濾器的工作狀態(tài),從而利用雜質(zhì)輻射排出進(jìn)入刮削層中的等離子體能流,將會(huì)是一種必須采取的技術(shù)手段。而在注入雜質(zhì)后,如何兼顧偏濾器靶板的低熱負(fù)載與芯部等離子的低雜質(zhì)濃度是關(guān)鍵問(wèn)題之一。本文基于二維邊界等離子體模擬程序SOLPS系統(tǒng)地開(kāi)展了 CFETR輻射偏濾器的數(shù)值模擬,研究了高輻射份額條件下雜質(zhì)注入的種類、位置以及不同的偏濾器位形對(duì)于偏濾器雜質(zhì)屏蔽性能的影響。具體包括以下幾方面內(nèi)容。研究工作首先針對(duì)常規(guī)下單零偏濾器位形開(kāi)展,在氬雜質(zhì)注入時(shí),模擬了不同等離子體密度條件下的輻射偏濾器。結(jié)果表明,在總輻射功率Prad~170 MW時(shí),在高密度和低密度條件下,內(nèi)外偏濾器等離子體均可以實(shí)現(xiàn)完全脫靶,從而大幅度降低偏濾器靶板的熱負(fù)載。Matthews實(shí)驗(yàn)定標(biāo)能夠較好的擬合模擬數(shù)據(jù),得到氬雜質(zhì)注入下有效電荷數(shù)Zeff與電子密度ne及總輻射功率Prad的關(guān)系,為進(jìn)一步的芯部參數(shù)優(yōu)化提供合理的邊界條件。除了氬以外,氮、氖也是目前實(shí)驗(yàn)中常用的輻射雜質(zhì),因此本文進(jìn)一步研究了三種不同氣體雜質(zhì)注入邊界等離子體后,雜質(zhì)輸運(yùn)及輻射的差別。模擬結(jié)果表明,在Prad~170 MW,偏濾器等離子體脫靶時(shí),相同的電子密度下,氮雜質(zhì)注入會(huì)造成最小的芯部燃料稀釋。然而,氮與鎢的化學(xué)反應(yīng)會(huì)增加鎢壁中的氚滯留,而氮與氚形成的類氨化合物也會(huì)增加氚工廠的負(fù)擔(dān)。在其余的兩種惰性氣體雜質(zhì)中,盡管氬的原子序數(shù)更高,氬雜質(zhì)注入?yún)s伴隨著更低的上游Zeff,這是由于氬原子有著比氖原子更低的電離能,因此更容易在靠近靶板附近的位置電離,進(jìn)而導(dǎo)致更強(qiáng)的非日冕平衡效應(yīng)(non-coronal)。因此,本文進(jìn)一步對(duì)Matthews定標(biāo)提出了一個(gè)試探性的修正:Zeff=1+C(Z-1)αPad/ne2-β/(EionD/Eionmp)γ,其中用電離能衡量雜質(zhì)輻射中非日冕平衡效應(yīng)的貢獻(xiàn),模擬結(jié)果與修正后的定標(biāo)有相當(dāng)好的吻合。本文進(jìn)一步模擬比較了四種不同的充氣方案對(duì)雜質(zhì)屏蔽性能的影響,具體包括:從上游充入氘氬混合氣體;從外偏濾器充入氘氬混合氣體;從內(nèi)偏濾器充入氘氬混合氣體;從上游充入氘氣的同時(shí)從外偏濾器充入氬氣。模擬結(jié)果表明,從上游注入氘氣時(shí),可以大大增強(qiáng)刮削層內(nèi)的背景等離子體流,從而得到更好的氬雜質(zhì)屏蔽效果與更低的上游Zeff。而與注入氘氣的位置相比,在相同總輻射功率的情況下,注入氬氣的位置對(duì)于邊界等離子的影響要小得多——此時(shí)偏濾器靶板再循環(huán)是邊界等離子體中最主要的雜質(zhì)源。本文最后模擬研究了CFETR裝置中氬雜質(zhì)注入下準(zhǔn)雪花偏濾器位形中的輻射偏濾器,并將模擬結(jié)果與常規(guī)的下單零偏濾器位形的結(jié)果進(jìn)行了比較。在高密度的情況下,準(zhǔn)雪花偏濾器能在更低的總輻射功率下實(shí)現(xiàn)內(nèi)外偏濾器等離子體的完全脫靶,并且由于其內(nèi)外偏濾器處等離子體的脫靶程度都更高,表現(xiàn)出了更好的雜質(zhì)屏蔽效果。而在低密度的情況下,由于我們所使用的準(zhǔn)雪花偏濾器位形中外偏濾器磁通展寬增加的幅度遠(yuǎn)高于內(nèi)偏濾器,隨著總輻射功率的增加,不同于下單零位形下內(nèi)偏濾器先脫靶,準(zhǔn)雪花偏濾器位形下外偏濾器處的等離子體率先脫靶,并且其中的雜質(zhì)輻射表現(xiàn)出的更強(qiáng)的內(nèi)外不對(duì)稱性。模擬結(jié)果表明,準(zhǔn)雪花偏濾器增加的磁通展寬與連接長(zhǎng)度不僅有助于偏濾器等離子體的脫靶,也可以提高等離子體脫靶的程度,因而可以通過(guò)抑制雜質(zhì)的反流而增強(qiáng)偏濾器處的雜質(zhì)屏蔽。
【圖文】:

聚變反應(yīng),反應(yīng)截面,同位素


邐(1.1)逡逑其中n表示中子,而4He即最常見(jiàn)的氦,也就是常說(shuō)的a粒子。這一反應(yīng)能夠產(chǎn)逡逑生17.6邋MeV的能量。圖1.1給出了氘l#聚變與其他兩種常見(jiàn)的聚變反應(yīng)截面的逡逑比較。逡逑10-21邐.....干?:二|邐■:.■_■!邋—邐[邐[邋|邋j邋|邋|邐L邋I邐L逡逑邐—邋一邐IJ邋 ̄邐二二二二—u-邐一一邋 ̄邋""邐 ̄"邋■邐二二:逡逑zzmi邋zmmi邋zn邋二二二::邐— ̄ ̄ ̄逡逑,u邐z逡逑7邐逡逑邐邐__邋"X邋邐:::逡逑10-22邋=邋=邋=邋=邋=邋=邋=邋1^==^邋=邋=邋=邋^^逡逑10 ̄23邋=邋=邋=邋=邋=^^====^^=====--逡逑====l=EE=E=p^EE=EE邋=逡逑/邐D-D/邋/逡逑ict24邋^三三三三三三g邐^三eee三三三逡逑lpllp^pill。剑剑剑藉义希0-5:邋t逡逑kt26。澹慑澹戾澹卞澹剩粒斟澹蛇娺婂澹保保保保保卞义希卞澹保板澹保埃板义希颍ǎ耄澹郑╁义蠄D1.1氘-氚、氘-氘、氘-氦3三種常見(jiàn)聚變反應(yīng)的反應(yīng)截面111逡逑作為氘氚聚變反應(yīng)的兩種主要燃料,氘和氚都是氫的同位素。氫是宇宙中含逡逑量最多的元素

示意圖,磁約束聚變,發(fā)展路線,示意圖


2015邐2020邐2025邐2030邐203S邐2040邐2045邐2050邐2055邐2060逡逑圖1.2中國(guó)磁約束聚變發(fā)展路線圖Ml逡逑圖1.3是CFETR的示意圖。CFETR的運(yùn)行預(yù)期分兩個(gè)階段:階段一(Phase逡逑I)的目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)氚自持和穩(wěn)態(tài)運(yùn)行,其聚變功率會(huì)達(dá)到200MW;階段二(Phase逡逑II)則會(huì)驗(yàn)證DEMO的可行性,實(shí)現(xiàn)超過(guò)1邋GW的聚變功率。CFETR的概念設(shè)計(jì)逡逑已經(jīng)開(kāi)展了超過(guò)四年的時(shí)間【19,2()1,其初始的設(shè)計(jì)參數(shù)為大半徑7?邋=邋5.7m,小半徑逡逑?=邋1.6邋m,環(huán)向磁場(chǎng)5T邋=邋4-5邋T。然而,對(duì)于這樣的設(shè)計(jì)而言,第二階段的運(yùn)行逡逑將會(huì)需要非常高的等離子體參數(shù),并會(huì)給偏濾器與包層的設(shè)計(jì)帶來(lái)極大的挑戰(zhàn)。逡逑因此,為了在現(xiàn)有的工程技術(shù)條件下同時(shí)滿足Phasel與Phasell的目標(biāo),CFETR逡逑又完成了多個(gè)版本的概念設(shè)計(jì),,其中包括大半徑尺=邋6.6m,小半徑《=邋1.8邋m,逡逑環(huán)向磁場(chǎng)=邋6-7邋T的版本|22】
【學(xué)位授予單位】:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:TL631.24

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本文編號(hào):2689313

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