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電離層中緯槽研究—統(tǒng)計分析、建模與CT反演

發(fā)布時間:2021-03-17 03:34
  電離層中緯槽是亞極光帶電離層的一個標志性結構,它不僅與當?shù)仉婋x層發(fā)生的各種物理過程有關,還受來自磁層的對流電場和地磁擾動等因素的影響。研究電離層中緯槽的形態(tài)學特征和動力學變化及其控制因素,對認識磁層-電離層耦合機制有重要科學意義,對中高緯電離層建模和預測也有潛在的應用價值。本文利用CHAMP衛(wèi)星近十年(2000-2009年)的電子密度觀測數(shù)據(jù),統(tǒng)計分析了地理經(jīng)度、季節(jié)、太陽活動以及行星際磁場和太陽風電場對中緯槽出現(xiàn)率的影響;通過典型事件分析和統(tǒng)計分析,研究了中緯槽的動力學特征以及地磁擾動和太陽風電場等因素對中緯槽運動的控制作用,并嘗試建立了中緯槽動力學經(jīng)驗模型。此外,利用CRACE衛(wèi)星信標TEC觀測數(shù)據(jù),開展了頂部電離層和較低等離子體層天基CT重建實驗,根據(jù)重建結果,分析了2005年5月超強磁暴期間中緯槽位置、寬度、深度等形態(tài)學特征隨高度的變化特征及磁暴的效應。論文的主要研究工作和結果歸納如下:1.利用CHAMP電子密度觀測數(shù)據(jù),對中緯槽出現(xiàn)率進行了統(tǒng)計分析,結果表明:(1)南北半球中緯槽出現(xiàn)率隨磁地方時的分布形態(tài)基本一致,出現(xiàn)率最大值均發(fā)生在午夜后1-2小時內(nèi),但北半球出現(xiàn)率整體上高... 

【文章來源】:武漢大學湖北省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】:124 頁

【學位級別】:博士

【部分圖文】:

電離層中緯槽研究—統(tǒng)計分析、建模與CT反演


中性大氣層各層溫度隨高度分布示意圖(Kelley,1989)

電離層中緯槽研究—統(tǒng)計分析、建模與CT反演


中偉電離層典型電子密度隨高度分布剖面(Brekke,1997)

電離層中緯槽研究—統(tǒng)計分析、建模與CT反演


太陽活動平靜期,白天大氣成分隨高度分布Uelley,1989)


本文編號:3086783

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