為了揭示熒光分析技術(shù)在作物響應(yīng)鎘脅迫研究中的應(yīng)用,以大豆幼苗為材料,對鎘脅迫條件下葉片鎘離子含量、葉綠素?zé)晒鈪?shù)、及熒光光響應(yīng)曲線的變化進行了分析,并進一步探討了葉綠素?zé)晒鈪?shù)與葉片鎘離子含量的關(guān)系。結(jié)果表明:在試驗過程中,伴隨著鎘脅迫時間的延長,葉片鎘離子含量呈現(xiàn)出逐步升高的趨勢,并在鎘脅迫9 d后達到最大值。鎘脅迫1 d后,大豆幼苗PSⅡ反應(yīng)中心能夠通過升高NPQ、降低Ф_PSⅡ與ETR來耗散過量激發(fā)能,避免能量過激發(fā)對它的生理傷害,進而維持F_v/F_m的穩(wěn)定。這表明此時的鎘脅迫對大豆造成了動態(tài)光抑制。鎘脅迫6 d后,雖然NPQ繼續(xù)升高,但光保護機制已不足以避免能量過激發(fā)造成的生理傷害,大豆幼苗F_v/F_m呈現(xiàn)出降低趨勢。這表明此時大豆幼苗受到了慢光抑制的影響。進一步對葉綠素?zé)晒鈪?shù)與葉片鎘離子含量進行相關(guān)及回歸分析發(fā)現(xiàn):F_v/F_m與鎘離子含量呈非線性相關(guān)(R²=0.842,p<0.01),Φ_PSⅡ...

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【文章目錄】：
引 言
1 實驗部分
    1.1 試驗設(shè)計
    1.2 觀測項目和方法
        1.2.1 葉綠素?zé)晒鈪?shù)采集
        1.2.2 葉片鎘含量測定
2 結(jié)果與討論
    2.1 鎘離子含量變化
    2.2 鎘脅迫下葉綠素?zé)晒鈪?shù)變化
    2.3 葉綠素?zé)晒夥治?br>    2.4 鎘脅迫下熒光光響應(yīng)曲線變化
3 結(jié) 論



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