碳膜電位計因為精度高穩(wěn)定性好被廣泛應用于航空航天等高精尖領域。目前我國主要通過噴涂法來制造精密碳膜電位計。但是由于部分工藝原因,及相關理論的欠缺,碳膜電位計的制造存在精度不能滿足要求,需要多次返工噴涂,這樣就會導致電位計生產(chǎn)周期變長,以及原料的浪費。本文將從碳膜電位計累積機理入手,通過對碳膜電位計噴涂過程中霧化理論進行分析,首先從理論角度分析碳膜電位計噴涂過程中對其精度產(chǎn)生影響的因素。然后結(jié)合實際生產(chǎn),對影響碳膜電位計精度的工藝因素進行分析歸類。根據(jù)實際噴涂過程中噴槍及基板的結(jié)構(gòu),建立碳膜電位計噴涂模型。然后根據(jù)已有模型,利用有限元分析軟件,對相關因素進行仿真分析,通過對仿真結(jié)果進行處理,確定后續(xù)試驗所用因素,并對已有理論進行初步驗證。應用無損檢測技術,對碳膜電位計膜層厚度均勻性進行分析檢測,通過對比碳膜電位計線性度與膜層均勻度,得出二者之間評價關系。并利用膜層檢測結(jié)果對仿真及理論分析進行驗證。最后,根據(jù)實際生產(chǎn)需求,對碳膜電位計噴涂設備進行改裝,以期減少電位計噴涂過程因漏液導致的工件報廢現(xiàn)象。由于碳膜電位計噴涂基體材料較為昂貴,同時實驗量較大,所以在不影響實驗結(jié)果的前提下尋找碳膜電位計...

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【學位級別】：碩士

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圖1-1碳膜電位計原理圖

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本文編號：4022403