剪切模式薄膜體聲波諧振器液相敏感特性研究
發(fā)布時間:2020-12-10 03:54
移動互聯(lián)網(wǎng)、物聯(lián)網(wǎng)以及可穿戴電子設(shè)備的發(fā)展對新型生化傳感器提出了高靈敏、微型化和芯片集成的要求。采用微機電系統(tǒng)(Micro-electromechanical Systems,MEMS)技術(shù)制造靈敏性更高、高度集成化的微型傳感器是傳感器領(lǐng)域的發(fā)展趨勢。薄膜體聲波諧振器(Film Bulk Acoustic Resonator,FBAR)是近年來受到關(guān)注的一種MEMS高頻電聲器件,具有工作頻率高、體積小、靈敏度高、與CMOS集成等優(yōu)勢,在生化傳感領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。但是目前所報道的大部分縱波模式FBAR傳感器在生化反應(yīng)所需的液相測試環(huán)境中性能衰減明顯,限制了其對痕量物質(zhì)的更高靈敏性。發(fā)展剪切波諧振模式的FBAR器件被認為是解決這一問題的有效方法。本文基于對高靈敏、可集成的生化傳感器的應(yīng)用需求以及MEMS技術(shù)的發(fā)展前沿,針對限制FBAR器件廣泛應(yīng)用的關(guān)鍵問題,對剪切模式FBAR傳感器的敏感原理、結(jié)構(gòu)設(shè)計、制造方法和應(yīng)用特性開展研究,提出了有效激發(fā)剪切波諧振的方案。首次在實驗上給出了微納尺度剪切體聲波對其粘滯界面的敏感規(guī)律,為液相生化在線分析提供了高性能的檢測平臺。進一步首次報道了基于剪...
【文章來源】:山東科技大學(xué)山東省
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.3?FBAR典型電學(xué)阻抗特性曲線,其中4為并聯(lián)諧振頻率,阻抗最大;,為串聯(lián)諧振??頻率,阻抗最小
?^?2?2 ̄ ̄??/(Gfiz)??圖1.3?FBAR典型電學(xué)阻抗特性曲線,其中4為并聯(lián)諧振頻率,阻抗最大;,為串聯(lián)諧振??頻率,阻抗最小。??Fig..?1.3?Typical?electrical?impedance?cnaracteristics?oi?r'BAR,?where?is?the?parallel?resonant??frequency?and?the?impedance?is?the?largest;^?is?the?series?resonant?frequency?and?the?impedance??is?the?smallest.??理想FBAR器件是由上下兩層電極與壓電薄膜構(gòu)成,形成類似“三明治’’狀??的結(jié)構(gòu)(圖1.2)?[18】。將射頻電壓施加在上下電極板上,交變電場會在兩個電極??之間的圧電振蕩堆中產(chǎn)生。由于受到壓電薄膜的逆壓電效應(yīng)的影響,壓電薄膜??會隨著交變電場的周期性變化而產(chǎn)生周期性的收縮、膨脹的機械形變,這種周??期性的機械形變會讓壓電薄膜產(chǎn)生周期性的振動,從而激勵出了沿薄膜厚度方??向傳播的體聲波。體聲波信號在兩電極與空氣接觸的地方發(fā)生反射。當(dāng)波長等??于壓電振蕩堆厚度的偶數(shù)倍時
1.4aFBAR,MEMS??加工工藝,將壓電振蕩堆下方的襯底材料刻蝕去除大部分,由此在壓電振蕩??的下邊界與空氣交界處形成接觸面。這種結(jié)構(gòu)的FBAR器件雖然Q值較高,??是由于襯底材料被大面積去除,導(dǎo)致機械強度降低,極大影響器件的成品率。??了解決該問題,工業(yè)上通常采用在壓電振蕩堆和襯底之間添加支撐層的辦法??來解決,然而這樣的結(jié)構(gòu)又在一定程度上降低了器件的Q值。??圖〗.4?(b)所示的是空氣隙型H3AR,這種類型器件的制備工藝采取了基于??EMS表面微機械加工技術(shù),即,先填充犧牲層再去除犧牲層,這樣會在壓電??蕩堆與襯底材料之間形成一個很薄的空氣隙,從而得到與上電極表面一樣的??氣反射界面。構(gòu)建空氣間隙有兩種方法:一種可以通過去掉部分襯底的表面??形成的下沉型,另一種可以直接在襯底表面上沉積襯底材料而形成上凸型[24,??5]?諝忾g隙結(jié)構(gòu)的FBAR器件不但Q值高,而且機械強度比背面刻蝕型FBAR??越,可以與傳統(tǒng)半導(dǎo)體工藝相兼容。但其缺點是由于工藝復(fù)雜,器件的空氣?? ̄一丨..電*丨丨丨■上錢??
本文編號:2908040
【文章來源】:山東科技大學(xué)山東省
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.3?FBAR典型電學(xué)阻抗特性曲線,其中4為并聯(lián)諧振頻率,阻抗最大;,為串聯(lián)諧振??頻率,阻抗最小
?^?2?2 ̄ ̄??/(Gfiz)??圖1.3?FBAR典型電學(xué)阻抗特性曲線,其中4為并聯(lián)諧振頻率,阻抗最大;,為串聯(lián)諧振??頻率,阻抗最小。??Fig..?1.3?Typical?electrical?impedance?cnaracteristics?oi?r'BAR,?where?is?the?parallel?resonant??frequency?and?the?impedance?is?the?largest;^?is?the?series?resonant?frequency?and?the?impedance??is?the?smallest.??理想FBAR器件是由上下兩層電極與壓電薄膜構(gòu)成,形成類似“三明治’’狀??的結(jié)構(gòu)(圖1.2)?[18】。將射頻電壓施加在上下電極板上,交變電場會在兩個電極??之間的圧電振蕩堆中產(chǎn)生。由于受到壓電薄膜的逆壓電效應(yīng)的影響,壓電薄膜??會隨著交變電場的周期性變化而產(chǎn)生周期性的收縮、膨脹的機械形變,這種周??期性的機械形變會讓壓電薄膜產(chǎn)生周期性的振動,從而激勵出了沿薄膜厚度方??向傳播的體聲波。體聲波信號在兩電極與空氣接觸的地方發(fā)生反射。當(dāng)波長等??于壓電振蕩堆厚度的偶數(shù)倍時
1.4aFBAR,MEMS??加工工藝,將壓電振蕩堆下方的襯底材料刻蝕去除大部分,由此在壓電振蕩??的下邊界與空氣交界處形成接觸面。這種結(jié)構(gòu)的FBAR器件雖然Q值較高,??是由于襯底材料被大面積去除,導(dǎo)致機械強度降低,極大影響器件的成品率。??了解決該問題,工業(yè)上通常采用在壓電振蕩堆和襯底之間添加支撐層的辦法??來解決,然而這樣的結(jié)構(gòu)又在一定程度上降低了器件的Q值。??圖〗.4?(b)所示的是空氣隙型H3AR,這種類型器件的制備工藝采取了基于??EMS表面微機械加工技術(shù),即,先填充犧牲層再去除犧牲層,這樣會在壓電??蕩堆與襯底材料之間形成一個很薄的空氣隙,從而得到與上電極表面一樣的??氣反射界面。構(gòu)建空氣間隙有兩種方法:一種可以通過去掉部分襯底的表面??形成的下沉型,另一種可以直接在襯底表面上沉積襯底材料而形成上凸型[24,??5]?諝忾g隙結(jié)構(gòu)的FBAR器件不但Q值高,而且機械強度比背面刻蝕型FBAR??越,可以與傳統(tǒng)半導(dǎo)體工藝相兼容。但其缺點是由于工藝復(fù)雜,器件的空氣?? ̄一丨..電*丨丨丨■上錢??
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