發(fā)布時間：2017-09-11 01:27

  本文關鍵詞：TOF-SIMS樣品光學成像系統(tǒng)設計

  更多相關文章： 成像系統(tǒng) Schwarzschild雙反射系統(tǒng) ZEMAX 飛行時間二次離子質譜(TOF-SIMS)

【摘要】：本研究為飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)設計了一種具有高空間分辨率的樣品光學成像系統(tǒng)。該系統(tǒng)由一種改進的Schwarzschild雙反射系統(tǒng)、45°反射鏡、變焦鏡頭及CCD圖像傳感器構成。采用ZEMAX軟件對傳統(tǒng)Schwarzschild模型進行計算和改進,得出系統(tǒng)優(yōu)化參數(shù)并進行仿真驗證。仿真結果表明:系統(tǒng)最佳的成像分辨率達1μm,極限分辨率為0.4μm,RMS半徑小于艾里斑直徑,波像差滿足瑞利判據(jù),成像質量良好。
【作者單位】： 吉林大學儀器科學與電氣工程學院;中國地質科學院地質研究所北京離子探針中心;
【關鍵詞】： 成像系統(tǒng) Schwarzschild雙反射系統(tǒng) ZEMAX 飛行時間二次離子質譜(TOF-SIMS)
【基金】：國家重大科學儀器設備開發(fā)專項《同位素地質學專用TOF-SIMS科學儀器》之任務二(2011YQ05006902)資助
【分類號】：TH843
【正文快照】： 2.中國地質科學院地質研究所,北京離子探針中心,北京102206)微區(qū)原位同位素分析方法是地球科學及宇宙空間科學中對鋯石以及宇宙塵埃樣品有效的技術分析手段[1]。二次離子質譜儀(SIMS)作為高效的表面分析儀器,可以在樣品上數(shù)微米的范圍內(nèi)獲取精確的同位素和化學組成信息,是一種

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本文編號：827824