本文關(guān)鍵詞：光學(xué)元件氣囊拋光去除效率影響因素研究

  更多相關(guān)文章： 氣囊拋光 去除效率 工藝參數(shù) 去除函數(shù) 拋光斑尺寸

【摘要】：基于Preston方程分析了氣囊拋光特性,確定去除函數(shù)的三個(gè)重要特征,即拋光斑尺寸、形狀以及去除量,得到影響光學(xué)元件氣囊拋光材料去除效率的主要參數(shù).通過定點(diǎn)拋光實(shí)驗(yàn),分析氣囊充氣壓強(qiáng)、壓縮量、主軸轉(zhuǎn)速對(duì)BK7光學(xué)元件去除函數(shù)和材料去除效率的影響.結(jié)果表明:充氣壓強(qiáng)與壓縮量對(duì)于氣囊拋光去除函數(shù)的形狀影響較大,去除效率隨氣囊充氣壓強(qiáng)增大先升高到2.08mm3/min后逐漸降低然后又升高,壓縮量與氣囊轉(zhuǎn)速的提高增大了材料的去除效率,分別可以達(dá)到6.84mm3/min和5.04mm3/min.
【作者單位】： 廈門大學(xué)機(jī)電工程系;
【關(guān)鍵詞】： 氣囊拋光 去除效率 工藝參數(shù) 去除函數(shù) 拋光斑尺寸
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51275433) 國家科技重大專項(xiàng)資助項(xiàng)目(2013ZX04006011-206) 中國工程物理研究院超精密加工技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開放基金資助項(xiàng)目(KF13011)
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 大口徑光學(xué)元件的超精密加工過程包括磨削、粗拋和精拋.粗拋光的主要目的是快速去除磨削加工中產(chǎn)生的毛刺、變質(zhì)層等,在保證一定表面粗糙度的基礎(chǔ)上,提高拋光效率;精拋階段主要目的是以提高工件的面形誤差為主,最終達(dá)到鏡面的拋光質(zhì)量[1-4].氣囊拋光工具由于本身的特點(diǎn)適用于

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本文編號(hào)：771160