本文關(guān)鍵詞：緊湊型光譜薄膜測厚儀的研制

  更多相關(guān)文章： 測量與計(jì)量 光譜薄膜測厚儀 緊湊 逆問題 干涉 不確定度

【摘要】：為了開發(fā)一種用于測量各向同性均勻薄膜介質(zhì)厚度的緊湊型薄膜測厚儀,采用了共光路垂直入射設(shè)計(jì),利用薄膜干涉原理,通過非線性優(yōu)化算法對反射光譜進(jìn)行了擬合,反演計(jì)算出了薄膜樣品的厚度。采用該儀器測量部分Si O2/Si薄膜樣件,測量結(jié)果與商業(yè)橢偏儀測量結(jié)果之間的相對偏差小于0.5%,而單次測量時(shí)間僅為70ms。結(jié)果表明,該薄膜測厚儀具有對測量距離不敏感、光路簡潔、結(jié)構(gòu)緊湊及重復(fù)性精度良好等優(yōu)點(diǎn),對實(shí)現(xiàn)在線實(shí)時(shí)測量功能具有積極意義。
【作者單位】： 華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 測量與計(jì)量 光譜薄膜測厚儀 緊湊 逆問題 干涉 不確定度
【基金】：湖北省科技支撐計(jì)劃資助項(xiàng)目(2014BEC052) 湖北省自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(2015CFB278) 國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)資助項(xiàng)目(2011YQ160002)
【分類號】：TH821.1
【正文快照】： 引言隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步,薄膜日益廣泛地應(yīng)用于微電子器件、微光機(jī)電系統(tǒng)和光學(xué)元器件等領(lǐng)域[1]。薄膜厚度是顯著影響薄膜力學(xué)、電磁和光電等性能的一個(gè)重要參量[2],因此在薄膜制備和分析應(yīng)用中,薄膜厚度的精確測量顯得尤為重要。薄膜的測量方法主要分為非光學(xué)方法和光學(xué)方

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前2條

1 姚景順，，畢文平，鐘生新;在線薄膜測厚儀[J];電子技術(shù);1995年01期

2 ;[J];;年期

本文編號：600290