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超大高寬比X射線波帶片的研制

發(fā)布時間:2025-02-05 11:09
  X射線顯微成像技術(shù)能夠?qū)悠返膬?nèi)部結(jié)構(gòu)實現(xiàn)高分辨率的無損傷觀測,有著高分辨率、高穿透性、豐富的襯度機制以及友好的成像環(huán)境等特點。此技術(shù)在微電子、生命科學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景。波帶片是X射線顯微成像技術(shù)中實現(xiàn)聚焦和成像的關(guān)鍵元件。波帶片環(huán)帶的幾何參數(shù)直接影響了成像的分辨率,而當(dāng)X射線能量較大時,需要足夠的波帶片厚度(或稱為高度),才能獲得高衍射效率,因此要求X射線波帶片具有大的高寬比。大高寬比X射線波帶片的傳統(tǒng)制作工藝復(fù)雜,價格昂貴。本文的工作,采用原子層沉積和聚焦離子束切割技術(shù)相結(jié)合的方法,探索了大高寬比X射線波帶片的批量制備方法,主要研究結(jié)果如下:(1)計算了金波帶片高度、X射線能量、衍射效率之間的關(guān)系。計算了四種材料組合(HfO2/Al2O3、HfO2/SiO2、Ir/Al2O3、Au/air)的波帶片,在不同 X 射線能量下(5keV、8kev、10keV、15keV、20keV、24keV)的衍射效率,結(jié)合材料的成膜特點及工藝匹配來分析,進(jìn)行波帶片疊層材料的選擇和結(jié)構(gòu)設(shè)計工作。(2)探究了原子層沉積技術(shù)制備氧化鋁和氧化鉿薄膜的工藝條件,考察了沉積溫度100℃-30℃...

【文章頁數(shù)】:74 頁

【學(xué)位級別】:碩士

【部分圖文】:

圖1-2?EXRF的STXM光束線的示意圖[22]??-emar'

圖1-2?EXRF的STXM光束線的示意圖[22]??-emar'

科學(xué)家完成。自此之后,分辨率在亞微米量級和亞i〇〇nm的STXM也相繼出??現(xiàn)剛。??圖1-2所示為STXM的示意圖。X射線光源多數(shù)通過同步輻射光源的方式提??供,利用波帶片這一光學(xué)元件對X射線進(jìn)行聚焦,聚焦后的X射線在焦點處形成??一個極小的光斑,由此通過樣品,形成一個微小的光....


圖1-3軟X射線對C、O、蛋白質(zhì)和水的穿透深度曲線[32]??-

圖1-3軟X射線對C、O、蛋白質(zhì)和水的穿透深度曲線[32]??-

生命科學(xué)領(lǐng)域的研究人員,利用x射線顯微成像技術(shù)研究自然狀態(tài)下的生物??活體!八啊敝福厣渚波長在2.34?nm-4.38?nm之間[3G’31】,此波段X射線對C、??H、0、N等幾種元素有明顯的吸收邊(圖1-3),生物活細(xì)胞的組成也主要含有這??幾種元素,因此可利用不同元素對....


圖1-4?(a-f)小鼠的腺癌細(xì)胞中細(xì)胞器的軟X射線成像圖

圖1-4?(a-f)小鼠的腺癌細(xì)胞中細(xì)胞器的軟X射線成像圖

在微電子領(lǐng)域,利用硬X射線三維成像技術(shù)可以直接實現(xiàn)半導(dǎo)體芯片內(nèi)部金??屬布線的觀察,檢測芯片電路中存在的缺陷[33],且不會對芯片結(jié)構(gòu)造成損傷,觀察??時不需要復(fù)雜的制樣工作,直接觀測即可。圖1-5是利用硬X射線三維成像技術(shù)??觀測到的半導(dǎo)體芯片的三維斷層。??現(xiàn)階段,微電子領(lǐng)域....


圖1-5硬X射線三維成像技術(shù)觀測芯片斷層??Fig?1-5?Hard?X-ray?3D?Imaging?Technology?Observing?Chip?Faults??

圖1-5硬X射線三維成像技術(shù)觀測芯片斷層??Fig?1-5?Hard?X-ray?3D?Imaging?Technology?Observing?Chip?Faults??

?成像技術(shù)觀測小鼠腺癌細(xì)胞,分辨率在36-70?nm,觀測到多種細(xì)胞器結(jié)構(gòu)[34]。??圖1-4?(a-f)小鼠的腺癌細(xì)胞中細(xì)胞器的軟X射線成像圖。M?(線粒體),L?(溶酶體),ER??(內(nèi)質(zhì)網(wǎng)),V?(囊泡),PM?(質(zhì)膜),NM?(核膜),NP?(核孔),Nu?(核仁),N....



本文編號:4029742

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